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CY-RTP1200-T8-H RTP快速退火爐管式

參考價(jià) 56000
訂貨量 ≥1臺(tái)
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱 鄭州成越科學(xué)儀器有限公司
  • 品牌 CYKY
  • 型號(hào) CY-RTP1200-T8-H
  • 產(chǎn)地 鄭州
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間 2025/8/11 16:47:47
  • 訪問(wèn)次數(shù) 24

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鄭州成越科學(xué)儀器有限公司位于鄭州市開(kāi)發(fā)區(qū),是一家專業(yè)從事材料制備設(shè)備研發(fā)、生產(chǎn)和銷售為一體的高科技公司。重點(diǎn)專注于CVD石墨烯制備設(shè)備、熒光粉燒結(jié)設(shè)備、氧化鋯生物陶瓷燒結(jié)、納米材料制備、電池材料制備、陶瓷材料的微波燒結(jié)、稀有金屬的區(qū)域提純等研究發(fā)展方向。

鄭州成越科學(xué)儀器有限公司的研發(fā)團(tuán)隊(duì)?wèi){借自身在熱處理技術(shù)方面的專業(yè)知識(shí)和豐富的實(shí)踐經(jīng)驗(yàn),先后研發(fā)出了多款材料制備設(shè)備。主要產(chǎn)品有:微波燒結(jié)爐、真空管式爐、箱式電阻爐、高頻感應(yīng)爐、氧化鋯燒結(jié)爐、熒光粉燒結(jié)爐、晶體退火爐、電池材料燒結(jié)爐、旋轉(zhuǎn)管式爐、立式管式爐、CVD管式爐等;

其他的產(chǎn)品還有:等離子清洗機(jī)、真空手套箱、真空干燥箱、環(huán)境模擬測(cè)試柜、行星球磨機(jī)、高純石英管、99剛玉管、真空法蘭等。

近年來(lái),在社會(huì)各界的關(guān)心支持下,公司不斷發(fā)展壯大,與國(guó)內(nèi)外多所高校和科研單位建立起了合作關(guān)系;公司還聘請(qǐng)了多位國(guó)內(nèi)外重點(diǎn)高校的教授,博導(dǎo)為公司常年的技術(shù)顧問(wèn),他們時(shí)刻與國(guó)內(nèi)外學(xué)術(shù)界保持交流,出國(guó)訪問(wèn),并親臨一線指導(dǎo)產(chǎn)品的生產(chǎn)和研發(fā),使我公司的產(chǎn)品不斷完善,并緊跟世界研究熱點(diǎn),推出相關(guān)的新產(chǎn)品。產(chǎn)品遠(yuǎn)銷歐美、日韓等國(guó)家,并在國(guó)內(nèi)外市場(chǎng)獲得業(yè)界好評(píng)。

如果您正在被國(guó)貨的產(chǎn)品質(zhì)量所困擾,選擇我們將改變您對(duì)國(guó)貨的某些觀念;如果您正在為自己的實(shí)驗(yàn)方案的實(shí)施而茫然,選擇我們將有專業(yè)的技術(shù)團(tuán)隊(duì)為您量身定做!如果您正在為故障設(shè)備的售后無(wú)人理會(huì)而發(fā)愁,選擇我們一切的問(wèn)題將由我們負(fù)責(zé)到底。鄭州成越科學(xué)儀器有限公司的誠(chéng)信、實(shí)力和產(chǎn)品質(zhì)量獲得業(yè)界的認(rèn)可。歡迎各界朋友蒞臨參觀、指導(dǎo)和業(yè)務(wù)洽談。

 

 

 

 

磁控濺射鍍膜儀,熱蒸發(fā)鍍膜儀,勻膠機(jī)旋涂?jī)x,熔煉爐,涂布機(jī),放電等離子燒結(jié)爐,靜電紡絲機(jī),金剛石線切割機(jī),RTP退火爐,晶體生長(zhǎng)爐,管式爐,CVD氣相沉積,氣氛爐,馬弗爐,熱解噴涂,等離子清洗機(jī),

RTP快速退火爐管式主要用于完成材料制備過(guò)程中的快速熱處理工藝工作??焖偻嘶馉t用于金屬硅化物合金形成。RTP快速退火爐被廣泛地用于在器件中制備金屬硅化物。

RTP快速退火爐管式主要用于完成材料制備過(guò)程中的快速熱處理工藝工作。

主要具備以下特點(diǎn):

1、更短的工藝時(shí)間;

2、更快的升、降溫速率;

3、處理基片時(shí)雜質(zhì)運(yùn)動(dòng)zui小;

4、減少顆粒沾污;

5、由于腔體體積不大,氣氛純度容易控制.

RTP快速退火爐應(yīng)用領(lǐng)域:

1、活化離子注入雜質(zhì),形成超薄結(jié)合。離子注入是半導(dǎo)體制造工藝中非常重要的一道工序,是用來(lái)把改變導(dǎo)電率的攙雜材料注入半導(dǎo)體晶片的標(biāo)準(zhǔn)工藝技術(shù)。

2、制作高質(zhì)量的 SiO,膜層。IC 制造對(duì)氧化膜層提出了很高的要求其中zui基本的要求使膜層更薄,采用傳統(tǒng)的技術(shù)即通過(guò)降低氧化反應(yīng)的溫度來(lái)降低氧化速率即會(huì)帶來(lái)另一個(gè)問(wèn)題,生長(zhǎng)溫度的降低會(huì)導(dǎo)致固定電荷和界面密度增加,影響氧化層質(zhì)量。RTP熱氧化工藝可以在合適的高溫下實(shí)現(xiàn)短時(shí)間的氧化。另一方面,可以利用往腔體內(nèi)通入氬或其它惰性氣體來(lái)稀釋氧氣達(dá)到降低氧化速率的目的。

3、用于金屬硅化物合金形成。RTP快速退火爐被廣泛地用于在器件中制備金屬硅化物。

RTP快速退火爐技術(shù)參數(shù):

產(chǎn)品名稱

RTP快速退火爐【管式】

產(chǎn)品型號(hào)

CY-RTP1200-T8-H

有效尺寸

Φ200mm

基片尺寸

8英寸

升溫速率

B型為標(biāo)準(zhǔn)配置:≦200/S,供電要求:AC380V/60Hz,功率18KW

降溫速率

200℃以上≤25min

控溫模式

可預(yù)設(shè)曲線,按流程控溫

控溫精度

±1

工作溫度

1000

測(cè)溫位置

測(cè)溫點(diǎn)置于樣品處

密封法蘭

水冷式

工作真空

10-3Pa105Pa均可

可通氣氛

可通:氮?dú)猓瑲鍤?,氧氣等非危險(xiǎn)、非腐蝕氣體

真空測(cè)量

標(biāo)準(zhǔn)配置:電阻規(guī),量程1Pa105Pa

選裝配置:復(fù)合真空計(jì),量程10-5Pa105Pa

真空系統(tǒng)

標(biāo)準(zhǔn)配置:VRD-4真空泵1臺(tái)

供電要求

要求配備32A2P空氣開(kāi)關(guān),電源電壓AC380V/60Hz

水冷機(jī)組

水箱容量9L,zui大揚(yáng)程10m

整機(jī)尺寸

1200mm   x 610mm x 570mm

包裝尺寸

1475*700*800

包裝重量

180Kg

隨機(jī)配件

1、說(shuō)明書(shū)1

2、隨機(jī)配件1

3、配件清單1


相關(guān)分類

氧化擴(kuò)散設(shè)備


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