CY-MSZ300-I-DC-Q 桌面型偏置靶單靶磁控鍍膜儀
- 公司名稱 鄭州成越科學(xué)儀器有限公司
- 品牌
- 型號(hào) CY-MSZ300-I-DC-Q
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2025/7/31 8:09:16
- 訪問次數(shù) 29
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本設(shè)備為偏置靶型單靶磁控鍍膜儀,磁控靶偏置于腔體一側(cè),濺射范圍可覆蓋樣品臺(tái)一半,通過樣品臺(tái)旋轉(zhuǎn)可以實(shí)現(xiàn)更大樣品的均勻鍍膜。理論*大支持樣品直徑為180mm。設(shè)備外形為桌面級(jí)別,大大減少了安裝場(chǎng)地需求。設(shè)備配有一個(gè)直流電源,可用于金屬及其他導(dǎo)電材料的濺射。設(shè)備真空系統(tǒng)采用渦輪分子泵組,抽氣速度快,極限真空度高,真空性能優(yōu)異。本設(shè)備結(jié)構(gòu)緊湊功能完善便于使用,非常適合用于各類鍍膜試驗(yàn)。
偏置靶型單靶磁控鍍膜儀技術(shù)參數(shù):
CY-MSZ300G-I-DC-Q 桌面型大腔體偏置靶單靶磁控鍍膜儀 樣品臺(tái) 尺寸 φ150mm 轉(zhuǎn)速 轉(zhuǎn)速0-20rpm可調(diào) 磁控濺射靶 數(shù)量 2” x1 偏置于腔體一側(cè) 真空腔體 腔體尺寸 φ300mm X 200mm 觀察窗口 全向可視 腔體材料 高純石英 開啟方式 頂蓋拆卸式 下法蘭 裝有旋轉(zhuǎn)式樣品臺(tái)及進(jìn)出氣口 真空系統(tǒng) 機(jī)械泵 雙級(jí)旋片泵 抽氣接口 KF16 分子泵 渦輪分子泵 抽氣接口 KF40 真空測(cè)量 電阻規(guī)+電離規(guī)復(fù)合真空計(jì) 排氣接口 KF40 極限真空 1.0E-3Pa 供電電源 AC 220V 50/60Hz 抽氣速率 前級(jí)泵 1.1L/s 分子泵:60L/S 電源配置 數(shù)量 直流電源 x1 *大輸出功率 直流電源300W 其他 供電電壓 AC220V,50Hz 整機(jī)尺寸 500mm X 320mm X6200mm 整機(jī)功率 2kW
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