CY-MSH325X-III-DCDCRF-SS 三英寸三靶磁控濺射鍍膜儀
- 公司名稱 鄭州成越科學(xué)儀器有限公司
- 品牌
- 型號(hào) CY-MSH325X-III-DCDCRF-SS
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2025/7/31 8:13:24
- 訪問次數(shù) 24
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鍍膜儀配有兩路高精度質(zhì)量流量計(jì),客戶若另有需求可以定制至多四路質(zhì)量流量計(jì)的氣路,以滿足復(fù)雜的氣體環(huán)境構(gòu)建需求;儀器標(biāo)配的渦輪分子泵組,極限真空可達(dá)1.0E-5Pa,同時(shí)另有其他類型的分子泵可供選購。分子泵的氣路由多個(gè)電磁閥控制,可以實(shí)現(xiàn)在不關(guān)泵的情況下打開腔體取出樣品,大大提高了您的工作效率。本產(chǎn)品可以選配一體機(jī)工控電腦對系統(tǒng)進(jìn)行控制,在電腦程序上可以實(shí)現(xiàn)真空泵組的控制、濺射電源的控制等絕大多數(shù)功能,可以進(jìn)一步提高您的實(shí)驗(yàn)效率。
三靶磁控鍍膜儀應(yīng)用范圍:
該設(shè)備可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。該三靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比,其不僅應(yīng)用廣泛,且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn),是一款實(shí)驗(yàn)室制備材料薄膜的理想設(shè)備。三靶磁控鍍膜儀技術(shù)參數(shù):
項(xiàng)目 | 明細(xì) | |
產(chǎn)品型號(hào) | CY-MSH325X-III-DCDCRF-SS | |
供電電壓 | AC220V,50Hz | |
整機(jī)功率 | 6KW | |
系統(tǒng)真空 | ≦5×10-4Pa | |
樣品臺(tái) | 外形尺寸 | φ150mm |
加熱溫度 | ≦750℃ | |
控溫精度 | ±1℃ | |
可調(diào)轉(zhuǎn)速 | ≦20rpm | |
磁控靶槍 | 靶材尺寸 | 直徑Φ50.8mm,厚度≦3mm |
冷卻模式 | 循環(huán)水冷 | |
水流大小 | 不小于10L/Min | |
靶槍數(shù)量 | 3 | |
真空腔體 | 腔體尺寸 | 直徑φ325mm,高度600mm |
腔體材質(zhì) | SUU304不銹鋼 | |
觀察窗口 | 直徑φ100mm | |
開啟方式 | 前面開啟 | |
氣體控制 | 1路質(zhì)量流量計(jì)用于控制Ar流量,量程為:200SCCM | |
真空系統(tǒng) | 配分子泵系統(tǒng)1套,氣體抽速600L/S | |
膜厚測量 | 可選配石英晶體膜厚儀,分辨率0.10 ? | |
濺射電源 | 直流電源功率500W*2,射頻電源功率300W | |
控制系統(tǒng) | CYKY自研專業(yè)級(jí)控制系統(tǒng) | |
真空計(jì) | 電阻規(guī)真空計(jì) | |
設(shè)備尺寸 | 1090mm×900mm×1250mm | |
設(shè)備重量 | 350kg |
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