CY-MSH325X-DCDCRF-SS 三靶向上磁控濺射鍍膜儀
- 公司名稱 鄭州成越科學(xué)儀器有限公司
- 品牌
- 型號 CY-MSH325X-DCDCRF-SS
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時間 2025/7/31 8:15:04
- 訪問次數(shù) 30
聯(lián)系方式:張經(jīng)理13938563701 查看聯(lián)系方式
聯(lián)系我們時請說明是化工儀器網(wǎng)上看到的信息,謝謝!
三靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的高性價比磁控濺鍍設(shè)備,具有標(biāo)準(zhǔn)化、模塊化、定制化的特點。該設(shè)備可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介電薄膜、光學(xué)薄膜、氧化膜、硬薄膜、聚四氟乙烯薄膜等,三種靶材可以滿足多層或多層涂層的需要。與同類設(shè)備相比,三靶磁控濺射鍍膜儀不僅應(yīng)用廣泛,而且具有體積小、操作方便等優(yōu)點。它是實驗室制備材料薄膜的理想設(shè)備。
三靶磁控濺射鍍膜儀技術(shù)參數(shù):
項目 明細(xì) 產(chǎn)品型號 CY-MSH325X-DCDCRF-SS 供電電壓 AC220V,50Hz 整機(jī)功率 6KW 系統(tǒng)真空 ≦5×10-4Pa 樣品臺 外形尺寸 φ150mm 加熱溫度 ≦750℃ 控溫精度 ±1℃ 可調(diào)轉(zhuǎn)速 ≦20rpm 磁控靶槍 靶材尺寸 直徑Φ50.8mm,厚度≦3mm 冷卻模式 循環(huán)水冷 水流大小 不小于10L/Min 靶槍數(shù)量 3 真空腔體 腔體尺寸 直徑φ325mm,高度600mm 腔體材質(zhì) SUU304不銹鋼 觀察窗口 直徑φ100mm 開啟方式 前面開啟 氣體控制 1路質(zhì)量流量計用于控制Ar流量,量程為:200SCCM 真空系統(tǒng) 配分子泵系統(tǒng)1套,氣體抽速600L/S 膜厚測量 可選配石英晶體膜厚儀,分辨率0.10 ? 濺射電源 直流電源功率500W*2,射頻電源功率300W 控制系統(tǒng) CYKY自研專業(yè)級控制系統(tǒng) 真空計 電阻規(guī)真空計 設(shè)備尺寸 1090mm×900mm×1250mm 設(shè)備重量 350kg
相關(guān)分類
該廠商的其他產(chǎn)品
- CY-MSZ180-I-DC-SS? 光纖繞絲單靶磁控濺射鍍膜儀
- CY-MSZ180-I-DC-SS? 單靶磁控光纖繞絲濺射鍍膜儀
- CY-MSH300-III-DCDCRF-SS 非導(dǎo)電薄膜等離子磁控濺射鍍膜儀
- CY-MSH300-III-DCDCRF-SS? 三靶磁控濺射鍍膜儀(直流+射頻)
- CY-MSH300-III-DCDCDC-SS 三靶磁控濺射鍍膜儀(直流)
- CY-MSH300-III-RFRFRF-SS 三靶磁控濺射鍍膜儀(射頻)
- CY-MSV325- II-DCRF-SS 雙靶磁控濺射鍍膜儀(雙膜厚儀)
- CY-MSV325- II-DCDC-SS 雙靶磁控濺射鍍膜儀(直流+射頻)