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化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>光學儀器及設備>電子顯微鏡>其它電子顯微鏡>CY-MSH150-I-RF-Q 旋轉(zhuǎn)粉末磁控濺射鍍膜儀

CY-MSH150-I-RF-Q 旋轉(zhuǎn)粉末磁控濺射鍍膜儀

具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱 鄭州成越科學儀器有限公司
  • 品牌
  • 型號 CY-MSH150-I-RF-Q
  • 產(chǎn)地
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
  • 更新時間 2025/7/31 8:36:45
  • 訪問次數(shù) 27

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鄭州成越科學儀器有限公司位于鄭州市*開發(fā)區(qū),是一家專業(yè)從事材料制備設備研發(fā)、生產(chǎn)和銷售為一體的高科技公司。重點專注于CVD石墨烯制備設備、熒光粉燒結(jié)設備、氧化鋯生物陶瓷燒結(jié)、納米材料制備、電池材料制備、陶瓷材料的微波燒結(jié)、稀有金屬的區(qū)域提純等研究發(fā)展方向。

鄭州成越科學儀器有限公司的研發(fā)團隊憑借自身在熱處理技術方面的專業(yè)知識和豐富的實踐經(jīng)驗,先后研發(fā)出了多款*材料制備設備。主要產(chǎn)品有:微波燒結(jié)爐、真空管式爐、箱式電阻爐、高頻感應爐、氧化鋯燒結(jié)爐、熒光粉燒結(jié)爐、晶體退火爐、電池材料燒結(jié)爐、旋轉(zhuǎn)管式爐、立式管式爐、CVD管式爐等;

其他的產(chǎn)品還有:等離子清洗機、真空手套箱、真空干燥箱、環(huán)境模擬測試柜、行星球磨機、高純石英管、99剛玉管、真空法蘭等。

近年來,在社會各界的關心支持下,公司不斷發(fā)展壯大,與國內(nèi)外多所高校和科研單位建立起了合作關系;公司還聘請了多位國內(nèi)外重點高校的教授,博導為公司常年的技術顧問,他們時刻與國內(nèi)外學術界保持交流,出國訪問,并親臨一線指導產(chǎn)品的生產(chǎn)和研發(fā),使我公司的產(chǎn)品不斷完善,并緊跟世界研究熱點,推出相關的新產(chǎn)品。產(chǎn)品遠銷歐美、日韓等國家,并在國內(nèi)外市場獲得業(yè)界*好評。

如果您正在被國貨的產(chǎn)品質(zhì)量所困擾,選擇我們將改變您對國貨的某些觀念;如果您正在為自己的實驗方案的實施而茫然,選擇我們將有專業(yè)的技術團隊為您量身定做!如果您正在為故障設備的售后無人理會而發(fā)愁,選擇我們一切的問題將由我們負責到底。鄭州成越科學儀器有限公司的誠信、實力和產(chǎn)品質(zhì)量獲得業(yè)界的認可。歡迎各界朋友蒞臨參觀、指導和業(yè)務洽談。

 

管式爐,氣氛爐,馬弗爐,等離子磁控濺鍍膜儀,等離子清洗機,切斷機,拋光機

該設備主要用于粉體材料、顆粒材料的包覆制備,用于改善粉體或顆粒的表面性能、分散性能、穩(wěn)定性能,賦予其導電性、耐腐蝕性等新功能。

粉體包覆磁控鍍膜儀是通過粉體在濺射腔室內(nèi)的旋轉(zhuǎn),以達到粉體表面均勺包覆的效果。

腔室可旋轉(zhuǎn)、傾斜,能快速出料。粉體包覆是指將一種或多種粉體顆粒投入到包覆設備中,通過物理或化學方法形成一層覆蓋在顆粒表面的物質(zhì)。粉體包覆的目的可以是改變顆粒表面

的性質(zhì)、增加顆粒的穩(wěn)定性、控制顆粒的釋放速率等。

多功能粉體包覆機應用領域:

1.新能源材料:

用于鋰電池正負極材料(如鈷酸鋰、硅碳負極)的表面包覆,提升導電性、循環(huán)穩(wěn)定性及anquan性。燃料電池催化劑的表面改性,增強催化活性和抗腐蝕性。

2.電子陶瓷與半導體:

對陶瓷粉體(如Al?O?、SiC)進行金屬或絕緣層包覆,改善介電性能或?qū)嵝?。半導體粉體(如硅粉)的鈍化處理,減少表面缺陷。

3.生物醫(yī)療:

yaowu粉末的緩釋涂層(如聚合物或金屬薄膜),控制yaowu釋放速率。生物相容性涂層(如羥基磷灰石)用于。

4.航空航天與jungong:

高溫合金粉體(如鈦合金)的表面抗氧化涂層,提升耐高溫性能。隱身材料的吸波涂層(如碳粉包覆磁性薄膜)。

5.化工與催化:

催化劑載體(如分子篩、活性炭)的金屬納米顆粒包覆,提高反應效率。防團聚涂層處理,改善粉體流動性。

多功能粉體包覆機產(chǎn)品特點:

1.高均勻,致密性;

2.廣泛材料適應性;

3.可控性強;

4.環(huán)保與anquan性;

5.高效批量處理;

6.界面結(jié)合力強;



配備紅外加熱模塊,可實現(xiàn)快速升溫




多功能粉體包覆機技術參數(shù):

產(chǎn)品名稱

多功能粉體包覆機

產(chǎn)品型號

CY-MSH150-I-RF-Q

控制系統(tǒng)

顯示模式

7英寸觸控屏

磁控濺射

靶材尺寸

2英寸

靶槍類型

標準磁場

適合靶材

非磁性金屬靶材

濺射類型

直流濺射

濺射真空

0.5Pa

濺射速率

以銅為例:7nm/min

膜層厚度

1微米

膜均勻性

±3%

樣品粒度

尺寸范圍:

樣品總量

500g

烘烤系統(tǒng)

烘烤溫度

500℃任意可設置

升溫速率

50/S任意可設置

控溫精度

±1

控溫模式

可編程,程序控溫

旋轉(zhuǎn)升降

旋轉(zhuǎn)速度

0-100RPM任意可設置

升降角度

0-60°任意可設置

等離子體

射頻功率

150W(另有:300W,500W,600W,1000W,1500W多種規(guī)格可選購)

功能效用

粉體包覆前,可先對粉體進行表面刻蝕,改性,增強包覆層附著力。

供氣系統(tǒng)

氣體種類

可通:氬氣、氮氣、氧氣等多種氣體

氣體控制

采用質(zhì)量流量控制器對氣體進行流量控制、氣體計量。

真空系統(tǒng)

前級泵

通常為雙極旋片泵,客戶可根據(jù)需要選購其它類型前級泵。

分子泵

通常為國產(chǎn)分子泵,客戶可根據(jù)需要選購其它類型分子泵。

真空計

復合真空計,量程為:10-5Pa105Pa

水冷機組

zui大流量10L-16L,zui大揚程10-25M

供電電源

AC220V/50Hz

設備尺寸

1800*620*1050

包裝尺寸

1900*720*1150

包裝重量

200kg

隨機配件

1、說明書1

2、隨機配件1

3、配件清單1



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