CY-PLC 可程控磁控濺射鍍膜儀
- 公司名稱 鄭州成越科學(xué)儀器有限公司
- 品牌
- 型號(hào) CY-PLC
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2025/7/31 8:50:47
- 訪問次數(shù) 47
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可程控磁控濺射鍍膜儀由工控機(jī)和PLC實(shí)現(xiàn)控制,有自動(dòng)和手動(dòng)控制兩種模式。除取放樣品外,其它操作過程全部在觸摸屏上實(shí)現(xiàn);提供真空系統(tǒng)、濺射工藝設(shè)置、充放氣系統(tǒng)等人機(jī)操作界面;在工控機(jī)上可通過配方設(shè)置參數(shù),實(shí)現(xiàn)對(duì)程序工藝過程和設(shè)備參數(shù)的設(shè)置。
可程控磁控濺射鍍膜儀設(shè)備用途:
該產(chǎn)品可廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、LED和光伏等行業(yè),主要用于各種金屬、半導(dǎo)體及介質(zhì)材料的薄膜制備,可滿足科研兼小批量生產(chǎn)需要。
濺射室極限真空 | ≤8.0×10-6Pa | |
恢復(fù)真空時(shí)間 | 系統(tǒng)從大氣抽至1.0×10-3 Pa≤15min | |
均勻性 | 膜厚不均勻性≤±5%;片間不均勻性≤±5%;批次間不均勻性≤±5% | |
濺射真空室 | 圓筒形結(jié)構(gòu),尺寸Ф800mm×250mm | |
磁控濺射系統(tǒng) | 永磁靶4支,靶材尺寸6英寸; 配1臺(tái)進(jìn)口電源(射頻或直流脈沖可選); 濺射速率:0.5~5埃/秒(靶材Al) | |
公轉(zhuǎn)基片臺(tái) | 6英寸6片,(4英寸12片或3英寸16片); 基片公轉(zhuǎn)3~15轉(zhuǎn)/分,連續(xù)可調(diào),可選配公自轉(zhuǎn)復(fù)合工件臺(tái) | |
光加熱系統(tǒng) | 樣品加熱溫度:室溫~250℃,連續(xù)可調(diào); 基片溫度不均勻性:≤±10℃; 控溫方式為PID自動(dòng)控溫及數(shù)字顯示,配備進(jìn)口控溫表 | |
工作氣路 | 2路質(zhì)量流量控制器氣路 | |
抽氣機(jī)組成 | 低溫泵(進(jìn)口)、羅茨干泵機(jī)組、氣動(dòng)閘板閥(進(jìn)口)、管路等 | |
真空測(cè)量 | 2個(gè)真空計(jì)(進(jìn)口)對(duì)系統(tǒng)真空、工作真空及前級(jí)真空進(jìn)行**檢測(cè);真空度在工控機(jī)觸膜屏上可直觀顯示;可準(zhǔn)確監(jiān)控濺射鍍膜工藝過程的真空度 | |
控制系統(tǒng) | 系統(tǒng)由工控機(jī)(觸摸屏)和進(jìn)口PLC實(shí)現(xiàn)對(duì)整個(gè)系統(tǒng)的控制 | |
占地面積 | 主機(jī) | 1500×1000mm2 |
電控柜 | 700×700mm2(一個(gè)) |
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