CY-MSZ254-I-DC-SS 小型單靶磁控濺射鍍膜儀
- 公司名稱 鄭州成越科學儀器有限公司
- 品牌
- 型號 CY-MSZ254-I-DC-SS
- 產地
- 廠商性質 生產廠家
- 更新時間 2025/7/31 8:53:55
- 訪問次數(shù) 33
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小型單靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備,具有小型化、標準化的特點。磁控靶有1英寸、2英寸可以選擇,客戶可以根據(jù)所鍍基板的大小自主選擇;所配電源為150W直流電源,可用于金屬濺射鍍膜。鍍膜儀配有通氣接口,可以通入保護性氣體,若客戶需要通入混合氣體,可以聯(lián)系工作人員自行配置高精度質量流量計以滿足實驗需要。儀器標配的渦輪分子泵組,極限真空可達1.0E-5Pa,同時另有其他類型的分子泵可供選購。
本設備為單靶磁控鍍膜儀,可用于金屬薄膜的制備,在電子領域、光學領域、特殊陶瓷制備等領域均有應用,也可實驗室SEM樣品制備。
本套配置采用高真空不銹鋼腔體,腔體設置帶擋板的石英觀察窗,便于實驗的觀察記錄;腔體設計真空性能優(yōu)良,造型小巧,十分適合實驗室使用。同時設備配有旋轉加熱樣品臺,可以有效提高薄膜的均勻性和成膜的質量。整機采用模塊化設計,操作邏輯簡單,操作界面直觀,利于上手。
小型單靶磁控濺射鍍膜儀適用范圍:
該設備可用于制備單層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該單靶磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比,經過小型化設計,高度集成,體積小巧,可以放置于桌面上使用,是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備。
小型單靶磁控濺射鍍膜儀技術參數(shù):
產品名稱 桌面型不銹鋼腔體單靶磁控濺射鍍膜儀 產品型號 CY-MSZ254-I-DC-SS 樣品臺 外形尺寸 φ100mm 加熱溫度 ≦500℃ 可調轉速 ≦20rpm 磁控靶槍 配一支兩英寸磁控靶,靶材尺寸:直徑50.8mm,厚度≦3mm 真空腔體 腔體尺寸 φ254mm X 300mm 觀察窗口 全向透明 腔體材料 304不銹鋼 開啟方式 上蓋拆卸式 真空系統(tǒng) 前級泵 低噪音雙極旋片泵 分子泵 低噪音大抽速渦輪分子泵 真空測量 復合真空計,量程:10-5~105Pa 抽氣接口 KF16 抽氣接口 KF40 排氣接口 KF16 系統(tǒng)真空 1.0×10-4Pa 供電電源 AC 220V 50/60Hz 抽氣速率 分子泵抽速600L/s,前級泵抽速1.1L/s 電源配置 電源數(shù)量 直流電源一套 輸出功率 直流電源300W 其他參數(shù) 供電電壓 AC220V,50Hz 整機功率 2kW 整機尺寸 550mm X 350mm X450mm
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