HMDS烘箱，晶圓涂膜HMDS真空烘箱系列電腦式HMDS真空烘箱主要應(yīng)用于半導(dǎo)體晶圓片光刻涂膠鍍膜前預(yù)處理，增黏劑HMDS涂覆作業(yè)。本設(shè)備適用于在涂膠前對晶片進(jìn)行預(yù)處理，集真空、烘烤、充氮、潔凈、HMDS加液多功能與一體。設(shè)備由箱體、真空、加熱、充氮、加液及控制等系統(tǒng)組成。通過多次預(yù)抽真空，充氮加熱循環(huán)進(jìn)行，既能達(dá)到使硅片表面干燥、潔凈的效果，又能夠有效的防止硅片的氧化和雜質(zhì)的擴(kuò)散，并且可以通過加液系統(tǒng)在硅片表面開成HDMS保護(hù)膜，從而使硅片具有良好的涂膠性能。和手工涂布HMDS相比，具有重復(fù)性好，節(jié)省藥液，環(huán)保，對人體無害的顯著優(yōu)點(diǎn)；也可用于晶片其它工藝的清洗。

三、產(chǎn)品特點(diǎn)：

1.控制界面：采用日本三菱PLC+7'觸摸屏人機(jī)交互界面，一鍵啟動，程序化運(yùn)行，溫度控制系統(tǒng)，抽真空系統(tǒng)，充氮系統(tǒng)，HMDS注液系統(tǒng)對接，亦可在操作界面單獨(dú)設(shè)定操控，實(shí)現(xiàn)一集多用。

2.箱體：工作室采用3mm優(yōu)質(zhì)不銹鋼內(nèi)膽，四周圓弧角焊接，表面凈化處理，密閉不漏氣，內(nèi)部自身不產(chǎn)塵，適用于半導(dǎo)體晶圓，光電等潔凈環(huán)境。

3.外殼：采用SS41# 中碳鋼板經(jīng)磷酸皮膜鹽處理后兩層防光面涂裝烤漆，可防止微塵

4.密封：門封采用四氟乙烯雙層密封一體成型耐高溫膠條，密封性好，柔軟潔凈無污染。

5.溫度控制系統(tǒng)：

5.1溫控器

采用日本FUJI數(shù)字型智能溫度控制器，控制精度±0.1℃，PID自動演算，自動恒溫，帶溫度傳感器斷線報警，超溫斷加熱，過沖抑制，抗干擾，AT自整定，溫度偏差修正功能，帶8段斜率升溫功能。

5.2 溫度傳感器

采用日制PT100鉑金電阻，不銹鋼鎧裝覆套，精度±0.5%，反應(yīng)靈敏，抗干擾，耐高溫

6.真空度控制系統(tǒng)

6.1 真空計(jì)

采用三菱PLC壓力控制模塊搭配上海產(chǎn)優(yōu)質(zhì)真空壓力變送器，壓力精度1pa

6.2 真空泵

采用上海產(chǎn)優(yōu)質(zhì)雙旋片油泵，真空極限10-3pa,亦可根據(jù)客戶需要配置德國進(jìn)口真空泵。

7.充氮系統(tǒng)

采用惰性氣體進(jìn)氣閥，不銹鋼無縫焊接管路，搭配日本進(jìn)口電磁閥，截止閥，耐壓，無泄漏。臺制氮?dú)饬髁坑?jì)，壓力調(diào)節(jié)閥，可充入氮?dú)猓瑲鍤獾榷喾N惰性氣體，氮?dú)饬髁?，充入時間可控制。

8.HDMS注液系統(tǒng)

防爆型HDMS制劑瓶，配置不銹鋼藥液管道，電磁回流閥，真空狀態(tài)打開閥門自動注液，安全密封無泄漏。

9.安全保護(hù)系統(tǒng)：

配置機(jī)臺異常工作狀態(tài)指示報警，安全斷路器，過壓過載保護(hù)，控制線路保險管，超溫保護(hù)，壓力過載保護(hù)，安全急停開關(guān)、工作狀態(tài)三色指示燈。所用電器器件及氣動元件均采用國內(nèi)外大廠，確保安全可靠。

四、選配件：

1.多通道溫度記錄儀：帶RS485通訊端口，曲線模式，多點(diǎn)溫度同屏顯示，可存儲記錄，配置USB接口，插入U盤到處數(shù)據(jù)，亦可配置打印機(jī)，打印溫度曲線。

2.壓力記錄儀：彩色液晶屏壓力記錄儀，在線監(jiān)控箱內(nèi)壓力，帶RS485通訊端口，可存儲記錄數(shù)據(jù)，亦可通過軟件連接電腦，導(dǎo)出數(shù)據(jù)。