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ECR-PECVD 電子回旋共振等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱 巨力科技有限公司
  • 品牌
  • 型號(hào) ECR-PECVD
  • 產(chǎn)地 進(jìn)口
  • 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
  • 更新時(shí)間 2017/9/6 17:37:48
  • 訪問次數(shù) 1686

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巨力科技有限公司專門經(jīng)銷歐美、日本等國(guó)家制造的*科學(xué)儀器,為客戶提供完備的售前咨詢和售后服務(wù)、技術(shù)支持。目前產(chǎn)品涵蓋材料科學(xué)、微納米技術(shù)、表面測(cè)量及表征、半導(dǎo)體、光伏和生命科學(xué)等領(lǐng)域。

 

可控環(huán)境型微納米力學(xué)測(cè)試系統(tǒng),超納米壓痕儀,納米壓痕儀,動(dòng)態(tài)超顯微硬度計(jì),超顯微硬度計(jì),納米硬度計(jì),納米劃痕儀,顯微劃痕儀,大載荷劃痕儀,納米摩擦儀,摩擦儀,摩擦試驗(yàn)機(jī),高溫摩擦試驗(yàn)機(jī),真空摩擦試驗(yàn)機(jī),膜厚儀,球磨儀,高精度臺(tái)階儀,三維微納米輪廓儀,原子力顯微鏡,薄膜應(yīng)力測(cè)量?jī)x,全息顯微鏡,激光測(cè)振儀,激光干涉儀,激光測(cè)速儀,光譜型橢偏儀,掃描霍爾探針顯微鏡,精密d33測(cè)試儀,薄膜d33測(cè)試儀,高溫介電測(cè)量系統(tǒng),表面等離子體共振儀,激光拉曼顯微鏡PCT測(cè)試儀,碳納米制備系統(tǒng),原子層沉積系統(tǒng),電子束蒸發(fā)系統(tǒng)熱蒸發(fā)系統(tǒng)超高真空蒸發(fā)系統(tǒng)磁控濺射系統(tǒng)分子束外延系統(tǒng) MBE有機(jī)分子束沉積 OMBD等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相淀積系統(tǒng) PECVD電子回旋共振等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積 ECR-PECVD低能離子減薄儀,離子減薄儀,拋光機(jī),精密切片機(jī),微熱臺(tái)

技術(shù)參數(shù)

 

1. ECR 微波等離子體源&和電源:
•圓形 
    􀁸8, 12 inch等離子體源 
    􀁸頻率2.46 GHz
    􀁸微波發(fā)生器, 電磁鐵和3個(gè)調(diào)諧器
•矩形等離子體源 
    􀁸長(zhǎng)度: 500 to 1,000 mm (up to 2,000 mm for large planar area deposition)
•電源 
    􀁸微波電源: 50 -1,200 W (up to 10 kW)
    􀁸反射微波功率測(cè)量 
    􀁸磁體電源: 600 W (100 V, 6 A)

2.薄膜沉積控制:
•膜厚檢測(cè)和處理時(shí)間可通過計(jì)算機(jī)程序控制
•膜厚檢測(cè)和處理速度可通過計(jì)算機(jī)程序控制 
    􀁸支持大面積沉積(如:氧化硅、氮化硅等) 
    􀁸可升級(jí)為在線 ECR-PECVD系統(tǒng)
•質(zhì)量流量和自動(dòng)壓力控制 
    􀁸質(zhì)量流量控制器:各種氣體 
    􀁸Baratron真空規(guī):等離子體處理 
    􀁸節(jié)流閥和控制器

3.真空室:
•圓形腔體
    •直徑: φ400 ~ 600 mm (Substrate : 2 to 15 inch)
    •高度: 400 ~ 700 mm
•方形腔體 
    •根據(jù)用戶需求定制

4.真空泵和測(cè)量裝置:
•低真空: 干泵,增壓泵和Convectron真空規(guī)
•高真空: 渦輪分子泵和離子規(guī)

5.控制系統(tǒng):PLC, 計(jì)算機(jī)觸摸屏控制

 

主要特點(diǎn)

 

擴(kuò)展功能:
•射頻電源:基底偏壓
•帶自動(dòng)樣品遞送裝置的Loadlock樣品加載室
•溫度控制器:基底加熱
•蒸鍍cell for doping on film
•基底旋轉(zhuǎn)功能:以提供薄膜厚度和熱均勻性
•大面積基底平移系統(tǒng)
•冷卻系統(tǒng)g

ECR特點(diǎn):
•更高的離子化程度
•更高的離子密度、低壓下< 10-4 Torr下粒子的活性
•更低的污染:因?yàn)闊o需電極
•適用于等離子體清洗,表面活化/改性和薄膜沉積

 
儀器介紹  

 

專業(yè)的沉積設(shè)備制造商,為各個(gè)領(lǐng)域的客戶提供完善的薄膜沉積解決方案:電子束蒸發(fā)系統(tǒng)、熱蒸發(fā)系統(tǒng)、超高真空蒸發(fā)系統(tǒng)、分子束外延MBE、有機(jī)分子束沉積OMBD、等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相淀積系統(tǒng)PECVD/ICP Etcher、電子回旋共振等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積、離子泵等



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