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PlasmaPro 800 PECVD等離子增強化學氣相沉積PECVDPX 2000
PlasmaPro 100 PECVD等離子增強化學氣相沉積PECVDPX 2000
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PlasmaPro 100 ICPCVD電感耦合等離子體化學氣相沉積ICPCVDPX 2000
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TFS 500原子層沉積研究設備PX 2000
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Beneq 轉(zhuǎn)換原子層沉積PX 2000
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Beneq Transform® 300ALDPX 2000
G10-碳化硅碳化硅沉積系統(tǒng)PX 2000
CCS系統(tǒng)化合物半導體沉積系統(tǒng)PX 2000
AIX G5+ C化合物半導體沉積系統(tǒng)PX 2000
AIX G5 WW C化合物半導體沉積系統(tǒng)PX 2000
AIX 2800G4-TM化合物半導體沉積系統(tǒng)PX 2000
MOCVD金屬有機源氣相沉積系統(tǒng)PX 2000
線列式PECVD高真空等離子體增強化學氣相薄膜沉積系統(tǒng)PX 2000
Cluster PECVD高真空等離子體增強化學氣相薄膜沉積系統(tǒng)PX 2000
PECVD高真空等離子體增強化學氣相薄膜沉積系統(tǒng)PX 2000
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EB700高真空電子束蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)PX 2000
ALD原子層沉積緊湊、經(jīng)濟型PX 1858
EB900高真空電子束蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)PX 2000
DZS500高真空電子束及熱阻蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)PX 2000
SMART蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)PX 2000
DZ450高真空熱阻蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)PX 2000
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LMBE450超高真空激光分子束外延薄膜沉積系統(tǒng)PX 2000
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