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使用 ICP-OES 測定金屬樣品中的硅元素

檢測樣品:金屬

檢測項(xiàng)目:硅元素

方案概述:本文介紹了一種使用 ICP-OES 測定金屬樣品基體中,氫氟酸介質(zhì)下硅元素的方法,采用了安捷倫無硅涂層的耐氫氟酸進(jìn)樣系統(tǒng),克服了常規(guī) ICP-OES 分析氫氟酸介質(zhì)空白值高的缺點(diǎn),獲得了較低的空白值,適合于測定多種金屬基體中不同含量范圍的硅元素。

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更新時(shí)間2022年09月21日

上傳企業(yè)安捷倫科技(中國)有限公司

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本文介紹了一種使用 ICP-OES 測定金屬樣品基體中,氫氟酸介質(zhì)下硅元素的方法,采用了安捷倫無硅涂層的耐氫氟酸進(jìn)樣系統(tǒng),克服了常規(guī) ICP-OES 分析氫氟酸介質(zhì)空白值高的缺點(diǎn),獲得了較低的空白值,適合于測定多種金屬基體中不同含量范圍的硅元素。

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