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電感耦合等離子體質(zhì)譜在半導(dǎo)體高純材料分析中的應(yīng)用

檢測樣品:半導(dǎo)體高純材料

檢測項目:痕量雜質(zhì)元素

方案概述:本文綜述了近十幾年來電感耦合等離子體質(zhì)譜(ICP-MS)在半導(dǎo)體行業(yè)高純材料分析方面的應(yīng)用,分別討論了 IC 硅片表面、光伏硅材料、三氯氫硅、四氯化硅、高純試劑、超純水、高純氣等物質(zhì)中痕量雜質(zhì)元素的分析方法。

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更新時間2024年05月24日

上傳企業(yè)上海美析儀器有限公司

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本文綜述了近十幾年來電感耦合等離子體質(zhì)譜(ICP-MS)在半導(dǎo)體行業(yè)高純材料分析方面的應(yīng)用,分別討論了 IC 硅片表面、光伏硅材料、三氯氫硅、四氯化硅、高純試劑、超純水、高純氣等物質(zhì)中痕量雜質(zhì)元素的分析方法。

電感耦合等離子體質(zhì)譜(ICP-MS)是80 年代發(fā)展起來的新的檢測技術(shù),已成為當(dāng)代蕞薔有力的元素分析手段之一,其以桌越的痕量分析能力,被廣泛應(yīng)用于多個領(lǐng)域。對痕量分析要求最高的,莫過于在半導(dǎo)體工業(yè)中對高純材料的雜質(zhì)分析,本文對近十幾年來電感耦合等離子體質(zhì)譜在半導(dǎo)體工業(yè)高純材料方面的分析應(yīng)用做一綜述,分別討論了IC硅片表面、光伏硅材料、三氯氫硅、四氯化硅、高純試劑、超純水、高純氣等物質(zhì)中痕量雜質(zhì)元素的分析方法。

 

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