島津企業(yè)管理（中國(guó)）有限公司
熱裂解–氣相色譜質(zhì)譜法定性分析拋光液中的有機(jī)成分
檢測(cè)樣品：拋光液
檢測(cè)項(xiàng)目：有機(jī)成分
方案概述：本文使用熱裂解–氣相色譜質(zhì)譜聯(lián)用儀對(duì)拋光液樣品分別進(jìn)行裂解氣模式〈EGA）分析和雙步裂解模式(Double-Shot)分析，通過(guò)譜庫(kù)檢索功能可獲得樣品中大分子聚合物和低沸點(diǎn)小分子的信息。該方法樣品用量少，操作簡(jiǎn)單，結(jié)果可靠，可較全面地定性拋光液中的有機(jī)成分。
芯片制造過(guò)程大致可以分為頂層設(shè)計(jì)、晶圓制造、封裝測(cè)試三大步驟，其中晶圓制造過(guò)程尤為復(fù)雜。根據(jù)不同工藝制程和技術(shù)節(jié)點(diǎn)的要求，每一片晶圓在生產(chǎn)過(guò)程中都會(huì)經(jīng)歷幾道甚至幾十道的化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)工序。CMP過(guò)程可以去除晶圓表面的氧化層、硅化物、金屬殘留物等雜質(zhì)，使晶圓表面達(dá)到全局平整落差100A°-1000A°（相當(dāng)于原子級(jí)10-100 nm)的超高平整度，從而保證晶體管等器件的性能和穩(wěn)定性。
在CMP過(guò)程中，需要使用一種特殊的液體研磨劑，即拋光液。拋光液是由超細(xì)固體研磨材料和化學(xué)添加劑組成的乳白色膠體混合物，具有研磨、腐蝕溶解等作用，主要原料包括研磨顆粒、pH調(diào)節(jié)劑、氧化劑、表面活性劑和分散劑等。
拋光液種類繁多、成分復(fù)雜，了解拋光液的成分，有助于后期配方優(yōu)化，從而獲得更穩(wěn)定、高效、環(huán)保的拋光液。
本文使用熱裂解–氣相色譜質(zhì)譜聯(lián)用儀對(duì)拋光液樣品分別進(jìn)行裂解氣模式(EGA）分析和雙步裂解模式( Double-Shot)分析，EGA分析結(jié)果可通過(guò)F-Search軟件檢索獲得拋光液樣品中大分子聚合物的信息，Double-Shot分析結(jié)果可通過(guò)NIST譜庫(kù)檢索得到樣品中低沸點(diǎn)小分子和大分子聚合物裂解產(chǎn)物的信息。該方法樣品用量少，操作簡(jiǎn)單，結(jié)果可靠，可較全面地獲得拋光液的成分。
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