LIBS、XRF或OES — 金屬分析設備的選型手冊
日立分析儀器的Mikko Järvikivi提供了選型指南,介紹了金屬分析的主要技術、現有的儀器以及有效的應用。

近年來,材料分析領域發(fā)生了迅猛變化。諸如光學發(fā)射光譜(OES)、X射線熒光(XRF)和激光誘導擊穿光譜(LIBS)等技術的持續(xù)發(fā)展與應用使其更適用于各行各業(yè)的公司。
無論是質量保證/質量控制流程(QA/QC)、材料分選、材料可靠性鑒定(PMI)還是科學分析,您均可使用現有產品在現場和移動中進行材料測試。
許多公司會問:哪種技術適合我們?