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紫外掩膜曝光機,365nm進(jìn)口掩模曝光機
  • 紫外掩膜曝光機,365nm進(jìn)口掩模曝光機

貨物所在地:上海上海市

地: 歐洲

更新時間:2024-08-22 11:17:51

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這款紫外掩膜曝光機是采用紫外LED冷光源的紫外曝光機和掩膜曝光機,是一種冷光源紫外LED掩膜曝光裝置,它提供標(biāo)準(zhǔn)的365nm紫外線,同時可根據(jù)用戶需求提供385nm, 395nm 和405nm紫外光源,適合光學(xué),生物科技,微電子,晶圓鍵合,固化,細(xì)胞培養(yǎng)等多種應(yīng)用,廣泛用于紫外曝光。

這款紫外掩膜曝光機是采用紫外LED冷光源的紫外曝光機掩膜曝光機,是一種冷光源紫外LED掩膜曝光裝置,它提供標(biāo)準(zhǔn)的365nm紫外線,同時可根據(jù)用戶需求提供385nm, 395nm 和405nm紫外光源,適合光學(xué),生物科技,微電子,晶圓鍵合,固化,細(xì)胞培養(yǎng)等多種應(yīng)用,廣泛用于紫外曝光。
紫外掩膜曝光機是*單色紫外發(fā)射,具有35mW/cm^2的功率密度,在4英寸的面積上光源均勻度搞到+/-10%, 是理想的高精度紫外曝光機。
這套紫外掩膜曝光機采用了的LED光源技術(shù),*實現(xiàn)單波長紫外冷光源照明,有效消除熱效應(yīng),非常適合實驗室或超凈間的紫外曝光使用。
紫外掩膜曝光機結(jié)構(gòu)緊湊,方便移動,采用觸摸屏控制操作,*有效安全控制紫外曝光室。
紫外掩膜曝光機的LED紫外光源壽命高達(dá)1萬小時,非常可靠而耐用,*,非常方便使用。

紫外掩膜曝光機特點
非常緊湊,桌上使用設(shè)計
*的紫外單色LED冷光源
zui大工作面積為4英寸晶圓
適合所有光刻膠
分辨率:2微米
無需預(yù)熱,直接開機使用
實時溫度控制功能確保均勻曝光
紫外照明功率強度可調(diào)
可單次曝光或連續(xù)曝光
適合光學(xué),生物科技,微電子,晶圓鍵合,固化,細(xì)胞培養(yǎng)等多種應(yīng)用

紫外掩膜曝光機參數(shù)
波長:365nm 或405nm 任選
功率密度:40mW/cm^2
曝光過程中襯底溫度上升:<1攝氏度
曝光時間:1秒到18小時
可編程控制循環(huán):10個
分辨率:2微米
外部尺寸:260x 260x260mm
重量:8.2kg
彩色觸摸屏:5.7英寸
供電要求:230V
用電功耗:180W



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