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貨物所在地：上海上海市
所在地： 歐洲
更新時間：2024-08-22 17:03:20
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在線詢價收藏產(chǎn)品( 聯(lián)系我們，請說明是在 化工儀器網(wǎng) 上看到的信息，謝謝?。?/p>
這套無掩膜光刻機(jī)具有無掩模光刻技術(shù)的便利，大大提高無掩膜影印和新產(chǎn)品研發(fā)的效率，節(jié)省時間，是的無掩模光刻系統(tǒng)。
這款無掩模光刻機(jī)直接用375nm或405nm紫外激光把圖形寫到光膠襯底上。
無掩模光刻系統(tǒng)，無掩膜光刻機(jī)特色
尺寸：925x925x1600mm
內(nèi)置計(jì)算機(jī)控制接口
激光光源：375nm或405nm
視頻輔助定位系統(tǒng)
自動聚焦設(shè)置
無掩模光刻機(jī)，無掩膜光刻機(jī)參數(shù)
線性寫取速度：>500mm/s
重復(fù)精度： 100nm
晶圓寫取面積：1—6英寸
襯底厚度：250微米-10毫米
激光點(diǎn)大?。?/span>1-100微米
準(zhǔn)直精度：500nm
(空格分隔,最多3個,單個標(biāo)簽最多10個字符)
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