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紫外掩膜對(duì)準(zhǔn)機(jī),mask aligner,掩模對(duì)準(zhǔn)機(jī)
  • 紫外掩膜對(duì)準(zhǔn)機(jī),mask aligner,掩模對(duì)準(zhǔn)機(jī)

貨物所在地:上海上海市

地: 歐洲

更新時(shí)間:2024-08-22 11:08:37

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紫外掩膜對(duì)準(zhǔn)機(jī)是shoukuan裝備有紫外LED光源的mask aligner,是掩膜對(duì)準(zhǔn)器中的理想冷光源紫外掩膜對(duì)準(zhǔn)機(jī)。能夠在4英寸工作面積上實(shí)現(xiàn)2微米微結(jié)構(gòu),對(duì)準(zhǔn)精度高達(dá)3微米,廣泛用于光刻掩膜對(duì)準(zhǔn)曝光,適用于微流體芯片,微電子,光學(xué)微結(jié)構(gòu),MEMS等微納器件的光刻制作。

紫外掩膜對(duì)準(zhǔn)機(jī)是全球shoukuan裝備有紫外LED光源mask aligner,是掩膜對(duì)準(zhǔn)器中的理想冷光源紫外掩膜對(duì)準(zhǔn)機(jī)。能夠在4英寸工作面積上實(shí)現(xiàn)2微米微結(jié)構(gòu),對(duì)準(zhǔn)精度高達(dá)3微米,廣泛用于光刻掩膜對(duì)準(zhǔn)曝光,適用于微流體芯片,微電子,光學(xué)微結(jié)構(gòu),MEMS等微納器件的光刻制作。
桌面型紫外掩膜對(duì)準(zhǔn)機(jī)-4英寸
桌面型紫外掩膜對(duì)準(zhǔn)機(jī)參數(shù)
分辨率:2微米
接收掩膜大?。?英寸 (2英寸可選)
接收襯底大?。?-4英寸, 50x50mm 到 100x100mm
系統(tǒng)可視分辨率:3微米 (1.5微米可選)
掩膜/襯底測(cè)量距離分辨率:0.5微米
theta襯底位移分辨率:5.10-4度
XYZ襯底位移分辨率:0.4微米(0.2微米可選)
波長(zhǎng):365nm 或 405nm
功率密度:35mW/cm^2
曝光中襯底升溫:<1攝氏度
曝光時(shí)間:1秒到18小時(shí)
可編程曝光循環(huán):>100個(gè)
尺寸:475x475x478mm
重量:55kg
觸摸屏:15.6寸彩色觸摸屏
電力要求:220V
用電功耗:180W
桌面型紫外掩膜對(duì)準(zhǔn)機(jī)-4英寸




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