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FPSUS-SMILE-納米壓印光刻機,微圖案化
  • FPSUS-SMILE-納米壓印光刻機,微圖案化

貨物所在地:上海上海市

地: www.felles.cn/g

更新時間:2024-08-22 17:05:21

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納米壓印光刻機SMILE制作微光學(xué)器件的納米壓印光刻系統(tǒng),也是晶圓級相機,圖像傳感器生產(chǎn)中所需的設(shè)備。

納米壓印光刻機SMILE制作微光學(xué)器件的納米壓印光刻系統(tǒng),也是晶圓級相機,圖像傳感器生產(chǎn)中所需的設(shè)備。納米壓印光刻機SMILE可在其掩模對準(zhǔn)器平臺上進行大面積圖案化。
微圖案化應(yīng)用
光學(xué)定制的抗蝕劑以水坑的形式分布在表面上基板表面。通過移動與基板接觸的基板抗蝕劑在基底之間徑向擴散填充印章的3D圖案。
最大晶圓尺寸:200mm
壓印面積:200mm
結(jié)構(gòu)分辨率:從mm級到<100nm
納米圖案化應(yīng)用
柔性印模在中心彎曲,并與涂有抗蝕劑的基材接觸。接觸波徑向延伸至基板的外邊緣。作為最終結(jié)果步驟:抗蝕劑固化(例如通過UV照射)。然后將堆疊分離,并將圖案的負(fù)片特征保留在基底上的抗蝕劑中需要精確的楔塊誤差補償和間隙設(shè)置因此,壓印光刻的關(guān)鍵因素。SUSS掩模對準(zhǔn)器平臺提供主動楔形誤差采用壓電線性電路的補償系統(tǒng)致動器、高精度間隙測量系統(tǒng)和力檢測器。這實現(xiàn)了精確的橫向和軸向?qū)⒂∧?zhǔn)基底。
最大晶圓尺寸:200mm
壓印面積:200mm
結(jié)構(gòu)分辨率:從mm級到<100nm
納米壓印光刻機亮點
+對抗蝕劑厚度和厚度的精確控制一致性
+任意襯底材料
+雙面圖案化能力
+高對準(zhǔn)精度
+邊緣處理或緩沖晶片以避免透鏡
+翹曲晶片處理
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納米壓印光刻機結(jié)果




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