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大型旋涂儀POLOS450
  • 大型旋涂儀POLOS450

貨物所在地:上海上海市

地: www.f-lab.cn/yu

更新時間:2024-08-21 16:08:19

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大型旋涂儀POLOS450是為光刻膠勻膠甩膠應(yīng)用設(shè)計的高精度旋涂儀器,適用于直徑450mm以下的基片使用。

大型旋涂儀POLOS450是為光刻膠勻膠甩膠應(yīng)用設(shè)計的高精度旋涂儀器,適用于直徑450mm以下的基片使用。手動化學(xué)分配,2條自動靜態(tài)分配線,氣動蓋打開和關(guān)閉,卡盤適配器和一個真空卡盤,最多可用于3個晶片,速度最大1500rpm,腔室最大直徑約450mm
大型旋涂儀POLOS450規(guī)格參數(shù)
桌面型號,獨立版本
適合直徑不超過450mm的襯底
手動化學(xué)品分配,2條自動靜態(tài)分配線
氣動蓋打開和關(guān)閉
卡盤適配器和一個真空卡盤,最多可用于3種晶片尺寸
最高轉(zhuǎn)速1500rpm

腔室最大直徑約450mm

大型旋涂儀POLOS450是為光刻膠勻膠甩膠應(yīng)用設(shè)計的高精度旋涂儀器,適用于直徑450mm以下的基片使用。手動化學(xué)分配,2條自動靜態(tài)分配線,氣動蓋打開和關(guān)閉,卡盤適配器和一個真空卡盤,最多可用于3個晶片,速度最大1500rpm,腔室最大直徑約450mm
大型旋涂儀POLOS450規(guī)格參數(shù)
桌面型號,獨立版本
適合直徑不超過450mm的襯底
手動化學(xué)品分配,2條自動靜態(tài)分配線
氣動蓋打開和關(guān)閉
卡盤適配器和一個真空卡盤,最多可用于3種晶片尺寸
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腔室最大直徑約450mm



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