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脈沖激光沉淀系統(tǒng)工作站PLD是氧化還原系統(tǒng)，脈沖激光沉積（PLD）是一種用于薄膜沉積的多用途工藝，其主要*點(diǎn)是將化學(xué)計(jì)量的材料從靶轉(zhuǎn)移到襯底。
SURFACE PLD工作站是一個(gè)*秀的薄膜原型制作和研究系統(tǒng)，可方便地獲取新材料，尤其是高級(jí)氧化物層。
PLD脈沖激光沉積工作站將PLD系統(tǒng)的所有組件（包括激光和激光氣體供應(yīng)）集成到一個(gè)機(jī)架中。緊湊的設(shè)計(jì)能夠***靈活地使用系統(tǒng)，并避免了許多硬件安裝工作。所有這些都是的多功能性的關(guān)鍵，即使對(duì)于沒(méi)有PLD技術(shù)經(jīng)驗(yàn)的用戶，也可以使用脈沖激光沉積PLD！

脈沖激光沉積PLD工作站以強(qiáng)大而緊湊的封裝提供**的沉積技術(shù)，適用于廣泛的應(yīng)用。盡管具有所有內(nèi)置的靈活性，但安全始終是*先事項(xiàng)：
封閉的激光束線，帶有外部驅(qū)動(dòng)的反射鏡調(diào)節(jié)，可安全地防止暴露于紫外線激光輻射
激光器和激光器氣體柜到外部排氣管

脈沖激光沉淀系統(tǒng)工作站真空室：靈活性良*
工作站視口真空室是為研究而設(shè)計(jì)的。它具有適用于***常見(jiàn)的現(xiàn)場(chǎng)分析工具或其他系統(tǒng)擴(kuò)展的備用法蘭：
光學(xué)分析方法：OES或FTIR
RHEED
質(zhì)譜儀器
額外的沉積或等離子源
此外，兩個(gè)窗口允許從兩個(gè)不同的角度和兩側(cè)對(duì)過(guò)程進(jìn)行視覺(jué)接觸。大前門(mén)可進(jìn)入主要工藝部件：靶材和基板操縱器。標(biāo)準(zhǔn)配置提供2“基板加熱器和4×2"分度目標(biāo)操縱器。可選1“基板加熱器和激光加熱器。
為了調(diào)節(jié)工藝條件，標(biāo)準(zhǔn)配置了兩個(gè)用于將工藝氣體供應(yīng)至腔室的質(zhì)量流量控制器通道。它們能夠自動(dòng)控制工藝氣氛和壓力。
通過(guò)結(jié)合控制軟件設(shè)計(jì)目標(biāo)操縱器，避免了目標(biāo)表面上的錐體形成，并保證了目標(biāo)的均勻磨損。激光束將以兩個(gè)不同的入射角照射目標(biāo)的每個(gè)點(diǎn)，因此無(wú)法形成影響燒蝕材料化學(xué)計(jì)量的錐體。
為了實(shí)現(xiàn)均勻的目標(biāo)磨損，沉積過(guò)程中有兩種不同的目標(biāo)運(yùn)動(dòng)模式：
搖擺：目標(biāo)轉(zhuǎn)盤(pán)以連續(xù)運(yùn)動(dòng)的方式來(lái)回移動(dòng)，以便激光束在距離目標(biāo)中心任意半徑處擊中目標(biāo)。該模式易于設(shè)置，只需知道目標(biāo)直徑。
掃描：移動(dòng)目標(biāo)轉(zhuǎn)盤(pán)，使激光束在目標(biāo)上“寫(xiě)入"定義的軌跡。調(diào)整目標(biāo)旋轉(zhuǎn)速度和軌道間距以匹配激光光斑大小和重復(fù)率。這實(shí)現(xiàn)了目標(biāo)表面的非常均勻的磨損。