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光子輻射顯微鏡
  • 光子輻射顯微鏡

貨物所在地:上海上海市

地: 歐洲

更新時間:2025-04-18 21:00:08

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光子輻射顯微鏡是為集成電路失效分析設計的Photoemission光子輻射定位系統(tǒng),,可采集集成電路背部發(fā)射的紅外光子,觀察分析半導體的光子輻射,進而對半導體集成電路失效分析測試。光子輻射Photoemission視圖可幫助用戶定位工作中的集成電路晶體管,確定重要的有效區(qū)域,并確定執(zhí)行故障注入和/或定位側(cè)槽工具。

光子輻射顯微鏡是為集成電路失效分析設計的Photoemission光子輻射定位系統(tǒng),,可采集集成電路背部發(fā)射的紅外光子,觀察分析半導體的光子輻射,進而對半導體集成電路失效分析測試。
光子輻射Photoemission視圖可幫助用戶定位工作中的集成電路晶體管,確定重要的有效區(qū)域,并確定執(zhí)行故障注入和/或定位側(cè)槽工具。
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光子輻射顯微鏡具有如下兩種觀察模式:
標準紅外成像模式:可從集成電路背部透過硅觀察集成電路(如下圖1)
光發(fā)射成像模式:可觀察集成電路元器件的光電發(fā)射輻射(如下圖2)
上述兩種圖像可重疊起來,**觀測失效的電子元器件Z(如下圖3)
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圖1:集成電路背部的紅外成像圖
圖2: 光子輻射模式成像圖
圖3: 光子輻射圖與紅外成像圖的疊加
光子輻射顯微鏡特點
非常適合集成電路背部光子輻射觀測
快速工作能力,僅僅需要數(shù)百毫秒就可獲得高質(zhì)量光子輻射圖像
可添加激光注入故障分析模塊功能
多種相機供選擇
光子輻射顯微鏡規(guī)格參數(shù)
光譜范圍:900-1700nm
分辨率:640x512像素
像素大小:15um x 15um
制冷方式:TEC


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