半導體行業(yè)的真空控制方案

時間：2024/6/14閱讀：700

在半導體制造中，英?？档恼婵湛刂飘a(chǎn)品可應用于各種工藝步驟，確保精準控制零件及設備生產(chǎn)所必需的真空條件。

并且，我們的產(chǎn)品技術在全球范圍的眾多客戶處都得到應用與印證，是能夠幫助企業(yè)提高生產(chǎn)力、效率、正常運行時間和產(chǎn)量的很好方案。

半導體行業(yè)的真空控制方案

晶體拉制

在晶體拉制過程中，英?？档碾娙菡婵沼嬒盗锌梢钥刂评魄粌鹊墓に噳毫?，從而生長出無瑕的硅晶體。這種精準的壓力控制對于實現(xiàn)*佳晶體生長至關重要，并有助于提高半導體材料的質量和純度。

氧化/柵極電介質和離子注入

在氧化/柵極電介質和離子注入等工藝中，英?？档恼婵湛刂飘a(chǎn)品可確保穩(wěn)定的真空環(huán)境。電容真空計系列可監(jiān)控工藝壓力，而皮拉尼真空計和冷陰極真空計則可提供全系統(tǒng)壓力控制。這種細致的調節(jié)對于獲得理想的材料特性和摻雜精度至關重要，從而直接影響到半導體器件的性能。

光刻技術

在光刻工藝中，英?？嫡婵湛刂平鉀Q方案（包括電容真空計和皮拉尼真空計）以及熱離子真空計和冷陰極真空計可實現(xiàn)工藝系統(tǒng)內精準的壓力控制。

真空元件可確保無泄漏連接，有助于提高光刻工藝的穩(wěn)定性和準確性。

半導體行業(yè)的真空控制方案