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超組合——AFM和GISAXS表征多孔薄膜

在這個(gè)世界上個(gè)體的力量是有限的，

80/90的小伙伴們都知道，

在龍珠里

悟空和貝吉塔的合體

才是燃時(shí)刻

才能打敗強(qiáng)大的敵人！

做實(shí)驗(yàn)也是一樣的道理哦！

使用Tosca™ 400和SAXSpoint 2.0系統(tǒng)

來表征垂直基底的多孔結(jié)構(gòu)聚合物薄膜。

掠入射小角X射線散射（GISAXS）

是一種用于分析納米尺度表面結(jié)構(gòu)

高度靈敏的測(cè)量方法

給出一個(gè)大樣品面積上的平均信息。

原子力顯微鏡（AFM）能提供

局部表面結(jié)構(gòu)的高空間分辨率的直接可視信息。

這使得兩種方法在納米結(jié)構(gòu)表面表征上互補(bǔ)。

Anton Paar –讓膜研究更易進(jìn)行

納米孔膜具有高超的潛力

如：現(xiàn)代電池和能量轉(zhuǎn)換應(yīng)用，以及水處理領(lǐng)域。

這類樣品的孔隙結(jié)構(gòu)的表征

對(duì)它的性能是極其重要的。

這里我們展示的是對(duì)厚度為100 nm

垂直硅基底的多孔高分子膜的表征。

 Tosca™ 400 – 高度自動(dòng)化工業(yè)AFM提供的圖片分辨率和高樣品通量。

SAXSpoint 2.0 – 多用途點(diǎn)準(zhǔn)直SAXS儀器，提供高分辨率和光通量，使得它成為膜研究的工具。

Fig. 1: 納米多孔PE/PEG薄膜水平方向一維切面的二維GISAXS圖樣（左）和AFM形貌圖（右）。

左邊的圖是用SAXSpoint 2.0系統(tǒng)研究結(jié)構(gòu)的GISAXS圖樣。從反射圖上計(jì)算得到孔-孔間距大約50 nm。從相應(yīng)的反射位置（見插圖）看，孔的六方排布可見。

右邊的圖顯示的是相應(yīng)的AFM形貌圖，使用Anton Paar新的AFM Tosca™ 400獲得。它證實(shí)了孔是六方排布，周期性50 nm和平均孔直徑為20 nm。

超組合——AFM和GISAXS表征多孔薄膜

在這個(gè)世界上個(gè)體的力量是有限的，

80/90的小伙伴們都知道，

在龍珠里

悟空和貝吉塔的合體

才是燃時(shí)刻

才能打敗強(qiáng)大的敵人！

做實(shí)驗(yàn)也是一樣的道理哦！

使用Tosca™ 400和SAXSpoint 2.0系統(tǒng)

來表征垂直基底的多孔結(jié)構(gòu)聚合物薄膜。

掠入射小角X射線散射（GISAXS）

是一種用于分析納米尺度表面結(jié)構(gòu)

高度靈敏的測(cè)量方法

給出一個(gè)大樣品面積上的平均信息。

原子力顯微鏡（AFM）能提供

局部表面結(jié)構(gòu)的高空間分辨率的直接可視信息。

這使得兩種方法在納米結(jié)構(gòu)表面表征上互補(bǔ)。

Anton Paar –讓膜研究更易進(jìn)行

納米孔膜具有高超的潛力

如：現(xiàn)代電池和能量轉(zhuǎn)換應(yīng)用，以及水處理領(lǐng)域。

這類樣品的孔隙結(jié)構(gòu)的表征

對(duì)它的性能是極其重要的。

這里我們展示的是對(duì)厚度為100 nm

垂直硅基底的多孔高分子膜的表征。

 Tosca™ 400 – 高度自動(dòng)化工業(yè)AFM提供的圖片分辨率和高樣品通量。

SAXSpoint 2.0 – 多用途點(diǎn)準(zhǔn)直SAXS儀器，提供高分辨率和光通量，使得它成為膜研究的工具。

Fig. 1: 納米多孔PE/PEG薄膜水平方向一維切面的二維GISAXS圖樣（左）和AFM形貌圖（右）。

左邊的圖是用SAXSpoint 2.0系統(tǒng)研究結(jié)構(gòu)的GISAXS圖樣。從反射圖上計(jì)算得到孔-孔間距大約50 nm。從相應(yīng)的反射位置（見插圖）看，孔的六方排布可見。

右邊的圖顯示的是相應(yīng)的AFM形貌圖，使用Anton Paar新的AFM Tosca™ 400獲得。它證實(shí)了孔是六方排布，周期性50 nm和平均孔直徑為20 nm。