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邁可諾技術(shù)有限公司
主營產(chǎn)品： 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機 |
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邁可諾技術(shù)有限公司
主營產(chǎn)品： 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機 |
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| 產(chǎn)品圖片 | 產(chǎn)品名稱 | |||
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RTP800V國產(chǎn)立式快速退火爐 8寸真空 簡單介紹：國產(chǎn)立式快速退火爐 8寸真空，RTP800V，使用多溫區(qū)控溫，可通過APP界面調(diào)節(jié)溫度均勻性。優(yōu)秀的光源冷卻系統(tǒng)確保光源壽命達到國際水平?？茖W(xué)的波長分布保證半導(dǎo)體材料可有效吸收。 產(chǎn)品型號：RTP800V 所在地：武漢市 更新時間：2025-04-16 |
參考價:面議 詢價留言 | ||
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RTP500SV國產(chǎn)小型桌面式快速退火爐 4寸真空 簡單介紹：國產(chǎn)小型桌面式快速退火爐 4寸真空，RTP500SV，使用多溫區(qū)控溫，可通過APP界面調(diào)節(jié)溫度均勻性。優(yōu)秀的光源冷卻系統(tǒng)確保光源壽命達到國際水平?？茖W(xué)的波長分布保證半導(dǎo)體材料可有效吸收。 產(chǎn)品型號：RTP500SV 所在地：武漢市 更新時間：2025-04-16 |
參考價:面議 詢價留言 | ||
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RTP500Z國產(chǎn)小型桌面式快速退火爐 4寸非真空 簡單介紹：國產(chǎn)小型桌面式快速退火爐 4寸非真空，RTP500Z，使用多溫區(qū)控溫，可通過APP界面調(diào)節(jié)溫度均勻性。優(yōu)秀的光源冷卻系統(tǒng)確保光源壽命達到國際水平?？茖W(xué)的波長分布保證半導(dǎo)體材料可有效吸收。 產(chǎn)品型號：RTP500Z 所在地：武漢市 更新時間：2025-04-16 |
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TC-20TC-Wafer校準(zhǔn)儀 簡單介紹：TC-Wafer校準(zhǔn)儀是一款專注晶圓溫場均勻性測量的儀器，適配市場上大多數(shù)主流廠家生產(chǎn)的RTP設(shè)備。 產(chǎn)品型號：TC-20 所在地：武漢市 更新時間：2024-05-31 |
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RTP-3S01RTP-3系列快速退火爐 簡單介紹：RTP-3系列快速退火爐，采用紅外輻射加熱及冷壁技術(shù)，可實現(xiàn)對實驗材料的快速升溫和降溫 產(chǎn)品型號：RTP-3S01 所在地：武漢市 更新時間：2024-05-30 |
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AS-OneAS真空快速退火爐 簡單介紹：AS真空快速退火爐，性能ZYUE，可搭配分子泵實現(xiàn)高真空下熱處理工藝。Z高溫度1500 ℃，Z快升溫速率200℃/Second。全程PC軟件控制升溫程序，保證溫度不過沖，控溫精度準(zhǔn)確。 產(chǎn)品型號：AS-One 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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AS-Micro真空快速退火爐 簡單介紹：AS-Micro真空快速退火爐，性能，可搭配分子泵實現(xiàn)高真空下熱處理工藝。zui高溫度1250 ℃，zui快升溫速率250℃/Second。全程PC軟件控制升溫程序，保證溫度不過沖，控溫精度準(zhǔn)確。 產(chǎn)品型號：AS-Micro 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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Solaris 150UV快速退火爐 簡單介紹：美國RTP系列的快速退火爐溫度均勻度≤1%，處理的大尺寸可以達到200mm，溫度可以達到1200攝氏度，處理過程可以在真空環(huán)境或者惰性氣體的環(huán)境中執(zhí)行，做多可支持4~6路進氣，可以用到的氣體包含N2，O2，N2H2，Ar和H2。 產(chǎn)品型號：Solaris 150UV 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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Solaris Eclipse快速退火爐系統(tǒng)SS 簡單介紹：快速退火爐系統(tǒng)SSI是一個簡單穩(wěn)定的熱處理系統(tǒng)，適合于廣泛大尺寸為直徑2~8英寸的基片材料和結(jié)構(gòu)的快速熱低溫退火（RTA），（如電子級硅、鋼鐵、玻璃、單晶硅、III-V族化合物、II-VI族化合物、鍺、超導(dǎo)體、陶瓷等等）。 產(chǎn)品型號：Solaris Eclipse 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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Solaris 100 /150/200SSI快速退火爐 簡單介紹：SSI快速退火爐系統(tǒng)是一個簡單穩(wěn)定的熱處理系統(tǒng)，適合于廣泛大尺寸為直徑2~8英寸的基片材料和結(jié)構(gòu)的快速熱低溫退火（RTA），（如電子級硅、鋼鐵、玻璃、單晶硅、III-V族化合物、II-VI族化合物、鍺、超導(dǎo)體、陶瓷等等）。 產(chǎn)品型號：Solaris 100 /150/200 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
參考價:面議 詢價留言 | ||
