 |
邁可諾技術(shù)有限公司
主營產(chǎn)品： 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機 |
12
聯(lián)系電話
|
邁可諾技術(shù)有限公司
主營產(chǎn)品： 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機 |
聯(lián)系電話
| 產(chǎn)品圖片 | 產(chǎn)品名稱 | |||
|---|---|---|---|---|
|
s1800shipley s1813光刻膠 簡單介紹：shipley s1813光刻膠 S1800系列， 正膠、紫外光刻膠。 光源推薦：g-Line，也可以用于寬譜。 單層厚度：0.4-2.7um。 型號： S1805 G2/S1813 G2/S1818 G2 應(yīng)用： 應(yīng)用于濕法腐蝕和干法刻蝕，也與底層膠LOR搭配，做lift-off 工藝。 產(chǎn)品型號：s1800 所在地：武漢市 更新時間：2025-08-04 |
參考價:¥100 詢價留言 | ||
|
mr-NIL212FC-100nm納米壓印光刻膠 mr-NIL212FC 系列 簡單介紹：光刻膠mr-NIL212FC 系列——專為高精度軟紫外納米壓印設(shè)計的革命性解決方案 產(chǎn)品核心優(yōu)勢： 快速固化技術(shù)（FC）：專為 200 nm 以下微細結(jié)構(gòu) 優(yōu)化，即使低強度紫外光源（如 LED）也能實現(xiàn)高效固化，顯著提升生產(chǎn)效率。 Excellence刻蝕穩(wěn)定性：相比標準型號（mr-NIL210），對 SiO? 等難刻蝕基材 的兼容性更強，圖案轉(zhuǎn)移精度更高。 PDMS 印章最佳搭 產(chǎn)品型號：mr-NIL212FC-100nm 所在地：武漢市 更新時間：2025-07-02 |
參考價:面議 詢價留言 | ||
|
mr-NIL212FC德國納米壓印光刻膠 簡單介紹：高分辨率：支持 ＜100 nm 結(jié)構(gòu)壓?。ㄈ鏼r-NIL212FC可實現(xiàn)200nm柱陣列）。 量產(chǎn)適配： UV-NIL：室溫低壓（＜100 mbar），適合大面積和連續(xù)生產(chǎn)（R2R）。 T-NIL：熱塑性/熱固性 可選，平衡效率與穩(wěn)定性。 工藝靈活性： 可搭配 LOR 光刻膠實現(xiàn)金屬納米結(jié)構(gòu)剝離（Lift-off）。 通過 SiPOL 硅含量樹脂實現(xiàn)圖案放大，用于深槽刻蝕。 產(chǎn)品型號：mr-NIL212FC 所在地：武漢市 更新時間：2025-07-02 |
參考價:面議 詢價留言 | ||
