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邁可諾技術(shù)有限公司

主營產(chǎn)品: 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機

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PL600NIL納米壓印機
NIL納米壓印機
參考價 面議
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 型號 PL600
  • 品牌 其他品牌
  • 廠商性質(zhì) 代理商
  • 所在地 北京市

更新時間:2025-06-05 19:39:59瀏覽次數(shù):3878

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【簡單介紹】
應(yīng)用領(lǐng)域 電子/電池
EZI UV NIL納米壓印機
EZI 紫外曝光納米壓印系統(tǒng)
EZ Imprinting推出了一款臺式獨立納米壓印系統(tǒng):PL系列400/600.
EZImprinting是一種超高產(chǎn)率(> 99%)納米壓印光刻系統(tǒng),帶有低于10納米的分辨率和一步自動釋放功能。
【詳細說明】

特點:

? 全晶圓壓印 - PL600適用于6英寸晶圓處理, PL400適用于4英寸晶圓處理

? 低于10納米分辨率,產(chǎn)率高達99

? 一步自動釋放功能,可防止分離過程中模具/基材損壞,使壓印產(chǎn)量增大

? 支持各種類型的硬模和軟模

? 可變模具和基材尺寸,靈活方便

? 可編程PLC,通過自定義參數(shù)進行過程控制,帶觸摸屏用戶界面

? 對準(zhǔn)功能選項

? 多種工藝,適用于各種應(yīng)用光學(xué)器件,顯示器,數(shù)據(jù)存儲,生物醫(yī)學(xué)器件,半導(dǎo)體IC,化學(xué)合成和*材料等

? 專有的紫外線固化納米壓印抗蝕劑對硬度或厚度沒有限制,并且與傳統(tǒng)的光刻工藝兼容

PL600

基材尺寸,6“標(biāo)準(zhǔn)(尺寸較小,形狀不規(guī)則)

印記區(qū):  與晶圓尺寸相同。

模板尺寸  6”,4” ,2” and 1”

壓印壓力: 1 psi標(biāo)準(zhǔn)

模具/基材自動釋放: 包括 - 不需要特殊工具

紫外線曝光時間:95%強度水平下2-3分鐘

對準(zhǔn)功能: x,yztheta(精度2um



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