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邁可諾技術(shù)有限公司

主營產(chǎn)品: 美國Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī)

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勻膠機(jī)/勻膠旋涂儀

濕法刻蝕顯影清洗系統(tǒng)

掩膜曝光光刻機(jī)

狹縫涂布儀

烤膠機(jī)/熱板

快速退火爐

納米壓印光刻機(jī)

紫外固化機(jī)/紫外固化箱

紫外臭氧清洗機(jī)

等離子清洗機(jī)

等離子去膠機(jī)

超聲波清洗機(jī)

原子層沉積系統(tǒng)

光學(xué)膜厚儀

探針臺(tái)

壓片機(jī)/液壓機(jī)

制樣機(jī)

手持式表面分析儀

接觸角測角儀

顯微鏡檢測系統(tǒng)

注射泵

干冰清洗機(jī)

程序剪切儀

韓國波導(dǎo)樹脂

環(huán)氧樹脂

光學(xué)試劑

鈣鈦礦材料

光刻膠

  • 碳紙
  • 防潮箱

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    蠕動(dòng)泵

    熱循環(huán)儀

    離心機(jī)

    手套箱

    天平

    鍵合機(jī)

    紫外交聯(lián)儀

    膜厚監(jiān)測儀

    離子濺射儀

    攪拌脫泡機(jī)

    橢偏儀

    自動(dòng)涂膜器

    分光光度計(jì)

    點(diǎn)膠機(jī)

    噴涂機(jī)

    晶圓片

    密度測試儀

    臨界點(diǎn)干燥儀

    光譜儀

    太陽光模擬器

    干燥機(jī)

    Norland膠水

    真空回流焊爐

    過濾器

    切割機(jī)

    電鏡耗材

    Alconox清潔劑

    有機(jī)光伏材料

    鈣鈦礦界面材料

    Rondol擠壓機(jī)

    切割設(shè)備

    超聲波細(xì)胞粉碎機(jī)

    低溫水循環(huán)

    水浴油浴

    蒸發(fā)器

    凍干機(jī)

    剝離器

    紫外掩膜曝光系統(tǒng)

    涂布機(jī)

    恒電位儀

    源測量單元

    太陽能電池IV測試系統(tǒng)

    太陽模擬器

    LED測量系統(tǒng)

    顯微鏡

    干燥箱

    霍爾效應(yīng)測試儀

    芯片熱管理分析系統(tǒng)

    滅菌鍋

    鍍膜設(shè)備

    公司信息

    聯(lián)人:
    鄧經(jīng)理
    話:
    4008800298
    機(jī):
    13681069478
    真:
    址:
    洪山區(qū)珞獅南路147號未來城A棟
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    [供應(yīng)]PL600-EZI 紫外曝光納米壓印系統(tǒng)
    PL600-EZI 紫外曝光納米壓印系統(tǒng)
    貨物所在地:
    北京北京市
    更新時(shí)間:
    2025-06-20 09:03:02
    有效期:
    2025年6月20日--2025年12月21日
    已獲點(diǎn)擊:
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    【簡單介紹】EZI UV Nanoimprint System PL600
    EZI 紫外曝光納米壓印系統(tǒng)
    EZ Imprinting推出了一款臺(tái)式獨(dú)立納米壓印系統(tǒng):PL系列400/600.
    EZImprinting是一種超高產(chǎn)率(> 99%)納米壓印光刻系統(tǒng),帶有低于10納米的分辨率和一步自動(dòng)釋放功能。
    【詳細(xì)說明】

    特點(diǎn):

    ? 全晶圓壓印 - PL600適用于6英寸晶圓處理, PL400適用于4英寸晶圓處理

    ? 低于10納米分辨率,產(chǎn)率高達(dá)99

    ? 一步自動(dòng)釋放功能,可防止分離過程中模具/基材損壞,使壓印產(chǎn)量大化

    ? 支持各種類型的硬模和軟模

    ? 可變模具和基材尺寸,靈活方便

    ? 可編程PLC,通過自定義參數(shù)進(jìn)行過程控制,帶觸摸屏用戶界面

    ? 對準(zhǔn)功能選項(xiàng)

    ? 多種工藝,適用于各種應(yīng)用光學(xué)器件,顯示器,數(shù)據(jù)存儲(chǔ),生物醫(yī)學(xué)器件,半導(dǎo)體IC,化學(xué)合成和*材料等

    ? 專有的紫外線固化納米壓印抗蝕劑對硬度或厚度沒有限制,并且與傳統(tǒng)的光刻工藝兼容

    PL600

    基材尺寸,6“標(biāo)準(zhǔn)(尺寸較小,形狀不規(guī)則)

    印記區(qū):  與晶圓尺寸相同。

    模板尺寸  6”,4” ,2” and 1”

    壓印壓力: 1 psi標(biāo)準(zhǔn)

    模具/基材自動(dòng)釋放: 包括 - 不需要特殊工具

    紫外線曝光時(shí)間:95%強(qiáng)度水平下2-3分鐘

    對準(zhǔn)功能: x,yztheta(精度2um



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