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邁可諾技術(shù)有限公司

主營產(chǎn)品: 美國Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī)

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勻膠機(jī)/勻膠旋涂儀

濕法刻蝕顯影清洗系統(tǒng)

掩膜曝光光刻機(jī)

狹縫涂布儀

烤膠機(jī)/熱板

快速退火爐

納米壓印光刻機(jī)

紫外固化機(jī)/紫外固化箱

紫外臭氧清洗機(jī)

等離子清洗機(jī)

等離子去膠機(jī)

超聲波清洗機(jī)

原子層沉積系統(tǒng)

光學(xué)膜厚儀

探針臺(tái)

壓片機(jī)/液壓機(jī)

制樣機(jī)

手持式表面分析儀

接觸角測角儀

顯微鏡檢測系統(tǒng)

注射泵

干冰清洗機(jī)

程序剪切儀

韓國波導(dǎo)樹脂

環(huán)氧樹脂

光學(xué)試劑

鈣鈦礦材料

光刻膠

  • 碳紙
  • 防潮箱

    馬弗爐

    培養(yǎng)箱

    蠕動(dòng)泵

    熱循環(huán)儀

    離心機(jī)

    手套箱

    天平

    鍵合機(jī)

    紫外交聯(lián)儀

    膜厚監(jiān)測儀

    離子濺射儀

    攪拌脫泡機(jī)

    橢偏儀

    自動(dòng)涂膜器

    分光光度計(jì)

    點(diǎn)膠機(jī)

    噴涂機(jī)

    晶圓片

    密度測試儀

    臨界點(diǎn)干燥儀

    光譜儀

    太陽光模擬器

    干燥機(jī)

    Norland膠水

    真空回流焊爐

    過濾器

    切割機(jī)

    電鏡耗材

    Alconox清潔劑

    有機(jī)光伏材料

    鈣鈦礦界面材料

    Rondol擠壓機(jī)

    切割設(shè)備

    超聲波細(xì)胞粉碎機(jī)

    低溫水循環(huán)

    水浴油浴

    蒸發(fā)器

    凍干機(jī)

    剝離器

    紫外掩膜曝光系統(tǒng)

    涂布機(jī)

    恒電位儀

    源測量單元

    太陽能電池IV測試系統(tǒng)

    太陽模擬器

    LED測量系統(tǒng)

    顯微鏡

    干燥箱

    霍爾效應(yīng)測試儀

    芯片熱管理分析系統(tǒng)

    滅菌鍋

    鍍膜設(shè)備

    公司信息

    聯(lián)人:
    鄧經(jīng)理
    話:
    4008800298
    機(jī):
    13681069478
    真:
    址:
    洪山區(qū)珞獅南路147號(hào)未來城A棟
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    [供應(yīng)]ossila紫外臭氧清洗機(jī)UV Ozone Cleaner
    ossila紫外臭氧清洗機(jī)UV Ozone Cleaner
    貨物所在地:
    湖北武漢市
    產(chǎn)地:
    英國
    更新時(shí)間:
    2025-05-15 14:38:13
    有效期:
    2025年5月15日--2026年5月15日
    已獲點(diǎn)擊:
    19
    【簡單介紹】ossila紫外臭氧清洗機(jī)UV Ozone Cleaner搭載4支150mm合成石英燈管(185nm/254nm雙波段輸出),通過紫外光解氧分子生成臭氧,實(shí)現(xiàn)有機(jī)污染物的非接觸式氧化分解。系統(tǒng)配備153mm直徑可溫控樣品臺(tái),支持12mm厚度內(nèi)各類基材處理。
    【詳細(xì)說明】

    ossila紫外臭氧清洗機(jī)UV Ozone Cleaner為實(shí)驗(yàn)室級(jí)表面處理設(shè)備,通過高功率紫外光源(主波長185nm/254nm)激發(fā)臭氧反應(yīng),實(shí)現(xiàn)高效無損傷清潔。系統(tǒng)操作流程簡明:放置樣品于溫控托盤→關(guān)閉艙門→設(shè)置清洗時(shí)長(≤59分59秒)→啟動(dòng)運(yùn)行,即可快速分解有機(jī)污染物為揮發(fā)性物質(zhì),獲得超潔凈表面(接近原子級(jí)清潔度)。

    核心功能特性

    1. 廣譜清洗能力

      • 適用基材:石英、硅、氧化硅、氮化硅、金、鎳、鋁、砷化鎵、礬土、玻璃、不銹鋼等

      • 去除污染物:光刻膠、樹脂、人體皮膚油脂、溶劑殘留、表面油漬、助焊劑、單分子膜等

    2. 多功能工藝應(yīng)用
      支持表面親水性改良、薄膜沉積預(yù)處理、AFM/STM探針清洗、光學(xué)元件清潔、表面氧化處理、紫外固化及滅菌消毒等9類工藝。

    3. 工程優(yōu)化設(shè)計(jì)

      • 抽屜式樣品臺(tái)(直徑153mm,最大承載厚度12mm)

      • LCD雙顯界面(實(shí)時(shí)顯示已用時(shí)間/剩余時(shí)間)

      • 四燈管陣列配置(燈管尺寸150×15mm)

      • 安全聯(lián)鎖機(jī)制(運(yùn)行中艙門鎖定防護(hù))

    ossila紫外臭氧清洗機(jī)UV Ozone Cleaner技術(shù)參數(shù)說明

    1. 紫外燈類型:配置4支合成石英紫外燈管

    2. 波長輸出:雙波段185nm與254nm協(xié)同作用

    3. 燈管尺寸:單支尺寸150mm(長)×15mm(直徑)

    4. 驅(qū)動(dòng)參數(shù):4000V高壓供電,工作電流30mA

    5. 電源規(guī)格:標(biāo)準(zhǔn)版230V/0.6A/50Hz,可選配110V/1.2A/60Hz版本

    6. 使用壽命:T80標(biāo)準(zhǔn)下2000小時(shí),常規(guī)實(shí)驗(yàn)室使用周期8-10年

    7. 設(shè)備尺寸:長300mm×寬204mm×高227mm

    8. 安全防護(hù):三重保護(hù)(機(jī)械聯(lián)鎖、超溫報(bào)警、自動(dòng)斷電)


    紫外臭氧清洗原理:

    紫外臭氧清洗是一種光敏氧化過程,其中短波紫外線輻射被有機(jī)分子吸收以將其從表面分離  (通過與臭氧分子的化學(xué)反應(yīng))。這是一種非常好的技術(shù), 用于清洗基材表面的樹脂,清潔 溶劑的殘留物,助焊劑,油以及表面消毒等,所有這些有機(jī)污染物都會(huì)影響樣品表面的性能。 與其他清潔技術(shù)(例如氧等離子體處理) 不同,紫外臭氧清洗不會(huì)導(dǎo)致樣品表面損傷。

    紫外臭氧系統(tǒng)使用高強(qiáng)度紫外光源, 用 185nm 和 254nm 兩種波長的光照射目標(biāo)表面。系統(tǒng) 內(nèi)存在的分子氧(O2) 通過波長小于 200 nm 的紫外線輻射分離產(chǎn)生兩個(gè)氧自由基(O•)。這 些自由基中的每一個(gè)隨后可以與另外的分子氧反應(yīng)產(chǎn)生臭氧(O3)分子。未被殘余氧吸收 的 200nm 以上的 UV 輻射,會(huì)被基材表面上存在的有機(jī)化學(xué)污染物強(qiáng)烈吸收,一旦被吸收, 這會(huì)導(dǎo)致活性或有機(jī)自由基的產(chǎn)生。這些反應(yīng)性有機(jī)物質(zhì)在與不穩(wěn)定的臭氧分子接觸時(shí),會(huì) 導(dǎo)致?lián)]發(fā)性物質(zhì)如 CO2 ,H2O ,N2  和短鏈有機(jī)化合物的形成。這些揮發(fā)性化合物可以很容 易地從表面上分解吸收, 保持基材的清潔。

     

     

     

     

     

     



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