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邁可諾技術(shù)有限公司
主營(yíng)產(chǎn)品： 美國(guó)Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
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邁可諾技術(shù)有限公司
主營(yíng)產(chǎn)品： 美國(guó)Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
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描述： KLT 5300 是一款針對(duì) i-Line、g-Line 和寬譜曝光應(yīng)用優(yōu)化的正性光刻膠。KLT 5300 具有高靈敏度、高產(chǎn)能的特點(diǎn)，適用于集成電路 (IC) 制造。
● 膜厚范圍：0-2.5 μm
● 設(shè)計(jì)用于行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)的 0.26 N TMAH（四甲基氫氧化銨）顯影液
● 可提供定制配方
KLT 5300 可粘附于多種基底，包括硅 (silicon)、玻璃 (glass)、金 (gold)、鋁 (aluminum)、鉻 (chromium) 和銅 (copper)。建議使用 HMDS（六甲基二硅氮烷）底涂劑。HMDS 底涂劑將增強(qiáng)其與大多數(shù)基底的粘附性。
目標(biāo)膜厚使用右側(cè)的旋涂速度曲線圖確定。涂膠程序包括一個(gè) 5 秒的鋪展循環(huán)。在最終轉(zhuǎn)速下的旋涂時(shí)間為 45 秒。旋涂曲線是使用 6 英寸硅片和靜態(tài)滴涂約 3 ml KLT 5300 光刻膠測(cè)定的。
對(duì)于 KLT 5300 和大多數(shù)其他厚度在 10 微米以下的正性光刻膠，微調(diào)膜厚的公式如下：
新旋涂速度 = 原旋涂速度 × (實(shí)測(cè)膜厚 / 目標(biāo)膜厚)2
推薦的熱板前烘溫度為 90°C - 105°C。典型的烘烤時(shí)間為 60 秒。
KLT 5300 適用于 i-Line、寬譜或 g-Line 曝光。
在接觸式熱板上以 115°C 烘烤 60 秒。
KLT 5300 針對(duì)使用 0.26N TMAH 顯影液進(jìn)行了優(yōu)化。
KLT 5300 可使用行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)的去除劑（如 NMP（N-甲基吡咯烷酮）、DMSO（二甲基亞砜）等）在 50-80°C 的溫度下去除。
較厚的膠膜可受益于采用雙槽工藝：第一槽去除大部分光刻膠，第二槽清潔干凈。
將產(chǎn)品直立存放于密閉容器中，溫度保持在 40-70°F (4-21°C)。遠(yuǎn)離氧化劑、酸、堿和火源。
