石墨烯薄膜 參考價：面議
石墨烯薄膜
銅基底石墨烯膜 參考價：面議
銅基底石墨烯膜
石英基底石墨烯膜 參考價：面議
石英基底石墨烯
PET基底石墨烯膜 參考價：面議
PET基底石墨烯膜
硅基底石墨烯膜 參考價：面議
硅基底石墨烯膜
PET薄膜 參考價：面議
PET薄膜
CdZnTe晶體基片 參考價：面議
CdZnTe晶體是一種閃爍礦結構的連續(xù)固溶體，改變Zn的組分，其晶格常數在0.6100 -0.6482urn之間連續(xù)可調，能與不同波段的HgCdTe晶格常數精確...
CaCO3晶體基片 參考價：面議
碳酸鈣（CaCo3）又稱方解石是一種非單軸晶體，雙折射大，光譜傳播范圍寬，呈一定大小的菱形狀，適用于可見和近紅外偏振材料?？凭Ч緡栏裉暨x自然生長的碳酸鈣原材料...
Al2O3 晶體基片 參考價：面議
Al2O3單晶（Sapphire,又稱白寶石，藍寶石）有著很好的熱特性，*的電氣特性和介電特性，并且防化學腐蝕，它耐高溫，導熱好，硬度高，透紅外，化學穩(wěn)定性好。...
Al2O3陶瓷基片 參考價：面議
Al2O3陶瓷基片
AlN薄膜 參考價：面議
AllN Epitxial范本saphhire提出了氫化物氣相外延（HVPE）的方法。氮化鋁薄膜又是成本效益的方法，用來取代氮化鋁單晶襯底。科晶真誠歡迎您的垂詢...
A-Z系列晶體列表 參考價：面議
A-Z系列晶體列表
雙刮刀微米級可調制膜器-寬度150mm--Se-KTQ-150D 參考價：面議
Se-KTQ-150D是一款雙刮刀的可調制膜器，由于有兩個刮刀所以涂覆效果會更加均勻。操作者可通過千分尺來調節(jié)刮刀與所涂覆平面之間的間隙，此工具特別適合實驗室制...
微米級可調制膜器-寬度100mm--Se-KTQ-100 參考價：面議
可調制膜器-這是一款*的濕法制膜工具，可通過千分尺調節(jié)制膜厚度。操作者可通過千分尺來調節(jié)刮刀與所涂覆平面之間的間隙，此工具特別適合實驗室制作電池電極，陶瓷膜前期...
寬度可調微米級可調制膜器-150mm--Se-KTQ-150A 參考價：面議
可調制膜器這是一款*的濕法制膜工具，可通過千分尺調節(jié)制膜厚度。操作者可通過千分尺來調節(jié)刮刀與所涂覆平面之間的間隙，此工具特別適合實驗室制作電池電極，陶瓷膜前期的...
2單靶直流磁控濺射儀--VTC-16-SM 參考價：面議
VTC-16-SM是一款桌面式等離子磁控濺射鍍膜儀，包含一個2英寸水冷靶頭和可旋轉樣品臺，外形小巧，性價比高，是制作各種金屬薄膜理想的鍍膜設備，可選配各種金屬靶...
6工位小型連續(xù)離子層反應吸附（SILAR）吸附系統(tǒng)--PTL-SC-6-LD 參考價：面議
PTL-SC-6是一款自動連續(xù)離子層吸收反應（SIAR）制膜系統(tǒng)，與手動操作相比，避免了實驗中的人為誤差，因為SIAR制膜法需多次對樣品進行重復提拉，所以手動很...
真空立式淬火爐--OTF-1200X-4-VTQ 參考價：面議
OTF-1200X-4-VTQ是立式可開啟真空管式淬火爐，石英管直徑100mm，配有一個密封的液體容器用于樣品淬火，溫度從Z高1200度到冰水或油，可用于研究材...
1500℃真空熱壓爐--OTF-1500X-VHP4 參考價：面議
OTF-1500X-VHP4是一款真空熱壓機，可對材料在真空（或氣氛保護）及高溫的環(huán)境下進行加壓，如把粉末壓成塊狀，或將多層晶片壓合在一起（擴散實驗）。此款儀器...
小型磁力滑動管式爐--OTF-1200X-S-DVD 參考價：面議
OTF-1200X-S-DVD是一款靠磁鐵推動坩堝移動的管式爐。其爐管直徑為50mm,Z高工作溫度為1200℃。本公司設計此款管式爐主要是為了在各種氣氛環(huán)境下用...
雙溫區(qū)立式高溫高壓爐--OTF-1200X-II-HPV 參考價：面議
OTF-1200X-II-HPV是一款雙溫區(qū)立式高溫高壓爐，爐管采用鎳基合金鋼管制作，具有較高的蠕變強度和抗氧化性。爐管可承受的Z高溫度為1100℃（在此溫度下...
磁懸浮感應熔煉爐 參考價：面議
FMF-10磁懸浮感應熔煉爐是一款小型真空懸浮感應熔煉系統(tǒng)，特別適合與磁性材料和金屬合金的探索。成套設備中包括一10KW的高頻感應熔煉爐，使樣品熔融（Z大熔樣品...
小型雙爐體滑動管式爐 參考價：面議
OTF-1200X-S2-50SL是一款小型的雙爐體滑動管式爐，爐管為Φ50×1400mm的石英管，并配有不銹鋼密封法蘭，儀器Z高溫度可以達到...
藍色PVC膜（單面具有粘附性） 參考價：面議
VTC-100PA真空旋轉涂膜機適用于半導體、晶體、光盤、制版等表面涂覆工藝。本機可用于強酸、強堿性涂覆溶液的涂膜制備。
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