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溫度對洗脫時(shí)間的影響 (SI-36 4D)
此色譜柱請配合使用抑制器法離子色譜系統(tǒng)。
下圖是使用陰離子分析用色譜柱IC SI-36 4D分析各陰離子，分析溫度和洗脫時(shí)間的關(guān)系。溫度對于洗脫時(shí)間的影響每種離子各不相同。溫度越高，硫酸根離子的洗脫速度越慢；在40 ℃或更高溫度下，硫酸根離子和溴離子的洗脫位置互換。由于碳酸鹽峰的位置也會(huì)變化，因此當(dāng)洗脫液為25 mM氫氧化鉀水溶液時(shí)，建議使用30 ℃。
Sample: 25 μL
- 1.F- 0.5 mg/L
- 2.Cl- 3 mg/L
- 3.NO2- 5 mg/L
- 4.SO42- 10 mg/L
- 5.Br- 10 mg/L
- 6.NO3- 10 mg/L
- 7.PO33- 20 mg/L
Column：Shodex SI-36 4D (4.0 mm I.D. x 150 mm)
Eluent：25 mM KOH aq.
(Eluent source : DionexTM EGC 500 KOH)
Flow rate：0.7 mL/min
Detector：Suppressed conductivity
Column temp.：30. 35, 40, 45, 50 ℃