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熒光光譜儀的用途特點及應用對象介紹

閱讀:4275        發(fā)布時間:2014-10-25
  熒光光譜儀主要用途:
  1.熒光激發(fā)光譜和熒光發(fā)射光譜2.同步熒光(波長和能量)掃描光譜 3.3D(Ex Em Intensity) 4.Time Base和CWA(固定波長單點測量)5.熒光壽命測量,包括壽命分辨及時間分辨 6.計算機采集光譜數(shù)據(jù)和處理數(shù)據(jù)(Datamax和Gram32)
  類別 指標
  儀器類別: 03030429 /儀器儀表 /成份分析儀器/X熒光譜儀
  指標信息: 激發(fā)光源 Xe 450W激發(fā)單色儀:4nm/mm,200nm~700nm 發(fā)射單色儀:雙色單儀,2nm/mm,300~1000nm光譜測量范圍:240nm~850nm 靈敏度:水喇曼信噪比4000:1(397nm/5nm bandpass)壽命響應范圍:10ps~10μs
  新型型號
  x射線熒光光譜儀:
  主要用途:儀器是較新型X射線熒光光譜儀,具有重現(xiàn)性好,測量速度快,靈敏度高的特點。能分析F(9)~U(92)之間所有元素。樣品可以是固體、粉末、熔融片,液體等,分析對象適用于煉鋼、有色金屬、水泥、陶瓷、石油、玻璃等行業(yè)樣品。無標半定量方法可以對各種形狀樣品定性分析,并能給出半定量結果,結果準確度對某些樣品可以接近定量水平,分析時間短。薄膜分析軟件FP-MULT1能作鍍層分析,薄膜分析。測量樣品的zui大尺寸要求為直徑51mm,高40mm.
  儀器類別: 0303040903 /儀器儀表 /成份分析儀器/熒光光度計
  指標信息:1.發(fā)射源是Rh靶X光管,zui大電流125mA,電壓60kV,zui大功率3kW 2.儀器在真空條件下工作,真空度<13pascals3.5塊分析晶體,可以分析元素周期表F~U之間所有元素,含量范圍是ppm~100%4.分析軟件是Philips公司(現(xiàn)為PANalytical)版軟件,既可作半定量,也可定量分析。精密度:在計算率N=1483870時,RSD=0.08% 穩(wěn)定性計算率Nmax=6134524,Nmin=6115920,N平均=6125704,相對誤差為0.03%
  附件信息: 循環(huán)水致冷單元,計算機 P10氣體瓶空氣壓縮機
  應用對象
  分析對象主要有各種磁性材料(NdFeB、SmCo合金、FeTbDy)、鈦鎳記憶合金、混合稀土分量、貴金屬飾品和合金等,以及各種形態(tài)樣品的無標半定量分析,對于均勻的顆粒度較小的粉末或合金,結果接近于定量分析的準確度。X熒光分析快速,某些樣品當天就可以得到分析結果。適合課題研究和生產(chǎn)監(jiān)控。

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