大氣監(jiān)測(cè)無(wú)人機(jī)-氣溶膠設(shè)備（德國(guó)） 參考價(jià)：面議
大氣監(jiān)測(cè)無(wú)人機(jī)-氣溶膠設(shè)備（德國(guó)）Hours是新一代大氣監(jiān)測(cè)無(wú)人機(jī)，它結(jié)合了目前流行的多旋翼無(wú)人機(jī)特點(diǎn)和大氣監(jiān)測(cè)系統(tǒng)，可以實(shí)現(xiàn)對(duì)空中，河流上方等無(wú)法到達(dá)的位置等...
便攜式粒徑譜儀-氣溶膠設(shè)備（德國(guó)） 參考價(jià)：面議
便攜式粒徑譜儀-氣溶膠設(shè)備（德國(guó)）便攜式粒徑譜儀具有穩(wěn)定的輸出和更長(zhǎng)的使用壽命。所有系統(tǒng)包括一個(gè)可插入式過(guò)濾器（直徑47或50毫米）的接口。因此進(jìn)行氣溶膠組成成...
氣溶膠粒徑譜儀2-德國(guó)設(shè)備 參考價(jià)：面議
氣溶膠粒徑譜儀2-德國(guó)設(shè)備氣溶膠粒徑譜儀21.光散射原理,90度散射角檢測(cè) 2.T型孔傳感器技術(shù),消除了邊緣效應(yīng)和重疊粒子計(jì)數(shù) 3.分辨率高 4.準(zhǔn)確度和穩(wěn)定性...
鹽霧氣溶膠發(fā)生器-德國(guó)設(shè)備 參考價(jià)：面議
鹽霧氣溶膠發(fā)生器-德國(guó)設(shè)備懸浮液、溶液和生物制劑中固體顆粒的生成優(yōu)勢(shì)良好的短期和長(zhǎng)期氣溶膠穩(wěn)定性可調(diào)粒徑寬范圍儲(chǔ)液罐易加注大型儲(chǔ)液罐（500 cm3）堅(jiān)固的設(shè)計(jì)...
氣溶膠稀釋器-德國(guó)設(shè)備 參考價(jià)：面議
氣溶膠稀釋器-德國(guó)設(shè)備它能降低顆粒物入口濃度，使顆粒物的入口濃度在儀器操作高敏感、高精度的范圍內(nèi)。它有兩檔標(biāo)準(zhǔn)的稀釋率，即100:1和10:1，兩臺(tái)稀釋器串連使...
ISO16890濾料測(cè)試系統(tǒng)-氣溶膠設(shè)備（德國(guó)） 參考價(jià)：面議
ISO16890濾料測(cè)試系統(tǒng)-氣溶膠設(shè)備（德國(guó)）ISO16890濾料測(cè)試系統(tǒng)不同系統(tǒng)配置可用于測(cè)試濾料、小型過(guò)濾元件、高效過(guò)濾器、一般通風(fēng)過(guò)濾器、壓縮空氣過(guò)濾器...
油霧氣溶膠發(fā)生器-德國(guó)設(shè)備 參考價(jià)：面議
油霧氣溶膠發(fā)生器-德國(guó)設(shè)備油霧常見于研究和質(zhì)量檢驗(yàn)行業(yè)中。在特定的質(zhì)量檢驗(yàn)和顆粒測(cè)量設(shè)備的校正中，Palas公司的氣溶膠發(fā)生器確保在可靠的參數(shù)條件下，結(jié)果穩(wěn)定可...
熱舟蒸發(fā)源-真空組件 參考價(jià)：面議
熱舟蒸發(fā)源-真空組件應(yīng)用范圍： 薄層沉積； 光學(xué)涂覆； 混合層沉積； 金屬電極接觸。
俄歇電子能量譜-真空組件 參考價(jià)：面議
俄歇電子能量譜-真空組件俄歇電子能量譜是一種利用高能電子束為激發(fā)源的表面分析技術(shù). AES分析區(qū)域受激原子發(fā)射出具有元素特征的俄歇電子。俄歇電子在固體中運(yùn)行也同...
等離子體原子/離子源-真空組件 參考價(jià)：面議
等離子體原子/離子源-真空組件產(chǎn)生感應(yīng)耦合等離子體,包括氮?dú)?氧氣和氫氣等分子氣體。使用1個(gè)射頻線圈（頻率13.56MHz）,能量將轉(zhuǎn)化為等離子體，這會(huì)產(chǎn)生僅具...
半球型電子能量分析譜-真空組件 參考價(jià)：面議
半球型電子能量分析譜-真空組件大型高透射半球形電子能量分析譜--120mm半徑.¨ 全程180度反轉(zhuǎn)角度.¨ 邊緣界線區(qū)域校正--使用Jos...
電子束蒸發(fā)源-真空組件 參考價(jià)：面議
電子束蒸發(fā)源-真空組件電子束蒸發(fā)源對(duì)于使用常用熱蒸發(fā)技術(shù)非常難蒸發(fā)的材料,電子束蒸發(fā)是一種有效的蒸發(fā)手段.通過(guò)高能電子束射向靶材來(lái)升高靶材溫度.相比于通常輻射或...
磁控濺射靶源-真空組件 參考價(jià)：面議
磁控濺射靶源-真空組件我司提供的磁控濺射源是目前一和超高真空系統(tǒng)（1e-11torr）匹配的商業(yè)用濺射源。 在不配置彈性墊圈的結(jié)構(gòu)中，可烘烤至250℃。在匹配的...
IG2離子源-超高真空 參考價(jià)：面議
IIG2離子源-超高真空典型應(yīng)用是氬離子濺射清洗表面（中科院物理所配置多套IG2型離子源）濺射清洗 /表面準(zhǔn)備，用于表面科學(xué)，MBE ，高真空濺射過(guò)程離子輔助沉...
皮可安培計(jì)-材料表征 參考價(jià)：面議
皮可安培計(jì)-材料表征技術(shù)參數(shù)：接口輸入: BNC; 模擬輸出: Banana jacks偏壓選項(xiàng)：無(wú)偏壓/ 內(nèi)置偏壓 （± 90 V DC）/ 外置偏...
真空腔體水氣解吸附組件 參考價(jià)：面議
真空腔體水氣解吸附組件Zcuve是近年來(lái)上較多使用的水蒸氣解吸技術(shù)。*的設(shè)計(jì)可從2.75“擴(kuò)展到8"法蘭尺寸，具有比例較高的紫外線功率因數(shù)
狹縫擠壓型涂布儀-勻膠機(jī) 參考價(jià)：面議
狹縫擠壓型涂布儀-勻膠機(jī)狹縫擠壓型涂布儀夾縫式擠壓型涂布儀（Slot Die Coater）可以用于可復(fù)制重復(fù)性測(cè)試。歸功于桌面小型化的設(shè)計(jì)。它也可以大幅降低材...
微型磁控濺射鍍膜設(shè)備 參考價(jià)：面議
微型磁控濺射鍍膜設(shè)備這款來(lái)自美國(guó)的微型磁控濺射系統(tǒng)滿足研究所和研發(fā)部門對(duì)真空薄膜沉積的性能要求，占用空間小，具有超高的性價(jià)比，可以向客戶提供優(yōu)質(zhì)的服務(wù)。
真空快速退火爐-材料設(shè)備 參考價(jià)：面議
真空快速退火爐-材料設(shè)備一般都是以紅外鹵素?zé)魹榘l(fā)熱元件，升溫速度極快，采用熱電偶測(cè)溫并采用*的PID控制，具有很高的控溫精度，快速退火爐具有真空裝置，可在多種氣...
超高真空磁控濺射鍍膜系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
超高真空磁控濺射鍍膜系統(tǒng)美國(guó)專業(yè)的制造商PVD公司是一家在磁控濺射沉積，電子束蒸發(fā)沉積，脈沖激光沉積等領(lǐng)域有著20年制造經(jīng)驗(yàn)。
電子束蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
E-Beam電子束蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)304不銹鋼圓柱形腔體，標(biāo)準(zhǔn)直徑有18英寸和24英寸，分子泵或冷凝泵；手動(dòng)傳片或自動(dòng)傳片,適合各種形狀尺寸的小片到200mm大的圓...
金屬有機(jī)化合物化學(xué)氣相沉積鍍膜設(shè)備 參考價(jià)：面議
金屬有機(jī)化合物化學(xué)氣相沉積鍍膜設(shè)備反應(yīng)器的設(shè)計(jì)可以根據(jù)工藝的需要很容易提升到滿足大直徑晶片生產(chǎn)的需要。我們也能為客戶設(shè)計(jì)以滿足客戶特殊工藝和應(yīng)用的需要。系統(tǒng)部件...
超高真空多腔室物理氣相沉積鍍膜系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
超高真空多腔室物理氣相沉積鍍膜系統(tǒng)該系統(tǒng)由專業(yè)的沉積設(shè)備商制造,配置多種沉積方式（預(yù)留各種功能接口）,高度靈活,非常適合多種沉積模式的科研.
等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積鍍膜系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積鍍膜系統(tǒng)通常選用射頻淋浴源（RF）或帶有不規(guī)則氣體分布的空心陰極射頻等離子體源作為反應(yīng)源產(chǎn)生等粒子體。部分PECVD可以升級(jí)到PECVD...(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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