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LYRA3掃描電鏡是一款集高分辨率 FE-SEM 鏡筒和多功能的高性能 Ga 離子源 FIB 于一體的雙束掃描電鏡，是切割橫斷面、定位制備高質(zhì)量TEM樣品以及高分辨三維樣品重構(gòu)的選擇。同時，大電子束流下的優(yōu)異分辨率有利于 EDX、WDX、EBSD 等分析應(yīng)用。LYRA3 滿足了當今材料科學和工業(yè)的樣品表征及微觀分析需求。此外，LYRA3 非常適合電子束/離子束光刻、多層微電子器件的電路編輯。高通量、功能強大、易于使用的軟件使得用戶可以毫不費力地實現(xiàn)復雜的 FIB-SEM 應(yīng)用操作，如三維重構(gòu)、連續(xù)橫斷面切割、TEM樣品制備以及相關(guān)的顯微分析等。

LYRA3掃描電鏡

突出特點

高性能電子光學系統(tǒng)

• Wide Field Optics™ 設(shè)計，利用中間鏡 ( IML) 技術(shù)使掃描電鏡具有多種操作和顯示模式，如大視野模式、景深增強模式等；
• 實時電子束追蹤技術(shù) (In-Flight Beam Tracing™),可實現(xiàn)性能及電子束的優(yōu)化，同時直接連續(xù)調(diào)節(jié)控制電子束參數(shù)；
• 全自動電子光學系統(tǒng)的設(shè)置與對中；
• 快速圖像采集速率；
• 應(yīng)用3D 電子束技術(shù)可實現(xiàn)*的實時立體成像觀察，開啟驚奇的 3D 體驗及 3D 導航微納世界之旅；