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超聲相控陣技術(shù)簡(jiǎn)介
閱讀：2026 發(fā)布時(shí)間：2011-7-14
超聲相控陣成像技術(shù)是通過控制換能器陣列中各陣元的激勵(lì)（或接收）脈沖的時(shí)間延遲，改變由各陣元發(fā)射（或接收）聲波到達(dá)（或來自）物體內(nèi)某點(diǎn)時(shí)的相位關(guān)系，實(shí)現(xiàn)聚焦點(diǎn)和聲束方位的變化，完成聲成像的技術(shù)。由于相控陣陣元的延遲時(shí)間可動(dòng)態(tài)改變，所以使用超聲相控陣探頭探傷主要是利用它的聲束角度可控和可動(dòng)態(tài)聚焦兩大特點(diǎn)。
超聲相控陣中的每個(gè)陣元被相同脈沖采用不同延遲時(shí)間激發(fā)，通過控制延遲時(shí)間控制偏轉(zhuǎn)角度和焦點(diǎn)。實(shí)際上,焦點(diǎn)的快速偏轉(zhuǎn)使得對(duì)試件實(shí)施二維成像成為可能。
超聲相控陣檢測(cè)技術(shù)具有以下的特點(diǎn)：
（1）生成可控的聲束角度和聚焦深度，實(shí)現(xiàn)了復(fù)雜結(jié)構(gòu)件和盲區(qū)位置缺陷的檢測(cè)。
（2）通過局部晶片單元組合實(shí)現(xiàn)聲場(chǎng)控制，可實(shí)現(xiàn)高速電子掃描;配置機(jī)械夾具，可對(duì)試件進(jìn)行高速、和多角度檢測(cè)。
（3）采用同樣的脈沖電壓驅(qū)動(dòng)每個(gè)陣列單元，聚焦區(qū)域的實(shí)際聲場(chǎng)強(qiáng)度遠(yuǎn)大于常規(guī)的超聲波檢測(cè)技術(shù)，從而對(duì)于相同聲衰減特性的材料可以使用較高的檢測(cè)頻率。