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[供應]H20-UVL真空紫外光譜儀

貨物所在地:上海上海市

更新時間:2025-04-02 21:00:06

有效期:2025年4月2日 -- 2025年10月2日

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H20-UVL真空紫外光譜儀產(chǎn)品簡介

H20-UVL真空紫外單色儀在真空環(huán)境下覆蓋100-400nm(3-12.4eV),在大氣環(huán)境下覆蓋190nm-400nm(3-6.5eV)。結(jié)合真空紫外光源和蝸輪驅(qū)動實現(xiàn)快速精確的光譜掃描,可作為一個優(yōu)異的真空紫外單色光源使用。在分辨率要求不高的情況下,配備單通道探測器,H20-UVL還是一個高性價比的真空紫外光譜分析系統(tǒng)。

H20-UVL真空紫外光譜儀產(chǎn)品簡介

H20-UVL真空紫外單色儀在真空環(huán)境下覆蓋100-400nm(3-12.4eV),在大氣環(huán)境下覆蓋190nm-400nm(3-6.5eV)。結(jié)合真空紫外光源和蝸輪驅(qū)動實現(xiàn)快速精確的光譜掃描,可作為一個優(yōu)異的真空紫外單色光源使用。在分辨率要求不高的情況下,配備單通道探測器,H20-UVL還是一個高性價比的真空紫外光譜分析系統(tǒng)。
 
H20-UVL真空紫外光譜儀技術特點
    單片式光學結(jié)構(gòu)確保光通量zui大化,高光學穩(wěn)定性
    配備4型消像差單色儀光柵,全光譜范圍線色散均勻
    全自動蝸輪高速驅(qū)動光柵
    光柵表面鍍氟化鎂膜,優(yōu)化120nm以上波長的輸出

典型應用
    透射反射測量
    熒光激發(fā)
    可調(diào)濾波/光源
    激光諧波濾波
 
技術指標

光學設計

HJY4型消像差單色儀光柵

焦長

200 mm

孔徑

f/4.2

刻線密度

1200 gr/mm

光學鍍膜

針對121nm優(yōu)化的MgF2

偏轉(zhuǎn)角

64°

色散

100nm3.6 nm/mm

驅(qū)動

高速蝸輪驅(qū)動

zui小步進

0.06 nm

速度

400 nm/s

精度

+/- 0.2 nm+/-0.06 nm (*)

可重復性

+/-0.06 nm

 

分辨率

優(yōu)于0.5 nm (**)

高真空

10-5 mbar (***)

真空泵法蘭

DN40 KF

入射/出射接口

測微狹縫(10 um  2 mm)

入射/出射法蘭

DN25 KF

電腦接口

USB2.0

可選項

超高真空

10-9 mbar

狹縫高度調(diào)節(jié)器

2, 4, 6 mm

(*)使用我們固件中的軟件驅(qū)動矯正可以提高單色儀的精度

(**)使用寬10微米,高2mm的狹縫在121nm處測量

(***)H20-UVL不含真空泵和真空計


 
附件
    前鏡腔,配備兩塊超環(huán)面鏡,實現(xiàn)光源和單色儀之間的光學匹配
    后鏡腔,配備兩塊超環(huán)面鏡,實現(xiàn)單色儀和樣品室之間的光學匹配
    樣品室,可搭載4塊直徑不大于25mm的樣品
    偏振插片
    制冷機,zui低至4K
    真空泵

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