半導體拋光液制備裝置是用于生產(chǎn)半導體拋光液的專用設備。
它通常由以下幾個主要部分構成：
原料儲存系統(tǒng)：
多個不同規(guī)格的儲罐，分別用于存放磨料（如納米級二氧化硅、氧化鋁等）、化學添加劑（如氧化劑、表面活性劑、螯合劑等）以及溶劑（如水、有機溶劑等）。
精確計量系統(tǒng)：
高精度的計量泵或稱重傳感器，能夠按照精確的配方比例準確地添加各種原料。
攪拌混合系統(tǒng)：
強力攪拌器或均質(zhì)機，確保各種原料充分混合均勻，達到微觀層面的均勻性。
溫度控制系統(tǒng)：
加熱和冷卻裝置，可根據(jù)需要控制反應和混合過程中的溫度，以優(yōu)化化學反應和物理混合效果。
過濾系統(tǒng)：
精細的過濾裝置，如微孔過濾器或超濾膜，用于去除可能存在的大顆粒雜質(zhì)和團聚物，保證拋光液的純凈度。
質(zhì)量監(jiān)測系統(tǒng)：
在線粒度分析儀：實時監(jiān)測磨料顆粒的粒徑分布。
pH 計：檢測溶液的酸堿度。
電導率儀：測量溶液的電導率，以評估溶液中離子的含量。
自動化控制系統(tǒng)：
對整個制備過程進行自動化控制和數(shù)據(jù)記錄，保證生產(chǎn)的穩(wěn)定性和可重復性。
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