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J聚集體具有的性能與功能，菁染料J-聚集體可應用于成像材料、信息存儲材料、光電材料、太陽能電池和光催化過程等領域。不同菁染料所形成的J-聚集體有不同的組成和結構。將J-聚集體看成一維的線性鏈狀結構,這...
熒光成像具有靈敏度、分辨率和反饋等優(yōu)勢。近紅外（NIR-II）內的光子對生物組織具有的穿透深度和信噪比；尤其位于1500-1700nm范圍內的光子，生物組織在此范圍內具有更低的散射、吸收和自發(fā)熒光。一...
熒光成像具有靈敏度高、特異性強等優(yōu)勢.然而傳統的近紅外一區(qū)(NIR-I,700-900nm)熒光成像存在組織穿透性差等問題.近紅外二區(qū)(NIR-I1,1000-1700nm)熒光成像可以減弱生物組織對...
溶液中的J-聚集體：隨著染料溶液濃度的提高，其吸收波峰發(fā)生藍移。這時產生了雙分子聚集體(D峰)或小的聚集體〈H峰)。進一步提高濃度后又會形成尺寸較大的聚集體、并發(fā)生吸收峰的紅移（呈現吸收強度高而窄的吸...
光刻膠是電子產業(yè)關鍵材料之一，又稱光致抗蝕劑，是一種對光的混合液體。其組成成分主要有光引發(fā)劑(包括光增感劑、光致產酸劑)、光刻膠樹脂、單體、溶劑和其他助劑。光刻膠能夠通過光化學反應，在曝光、顯影等光刻...
光刻膠（Photoresist）又稱光致抗蝕劑，是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射，其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對光的混合液體。在光...
光刻膠按照應用領域劃分，主要可分為PCB、面板、半導體三類，每一類光刻膠又有各自細分品類。其中半導體光刻膠技術門檻，按照光源波長的從大到小，可分為紫外寬譜(300-450nm)、g線(436nm)、i...
光刻膠是光刻工藝的材料，主要由樹脂、感光劑、溶劑、添加劑等組成，其中樹脂和感光劑是的部分。光刻膠主要成分：樹脂聚合物、感光劑、溶劑、添加劑。中文名稱：2-羰基-四氫呋喃-3-羥基-甲基丙烯酸酯英文名2...
光刻膠是一種有機化合物，受特定波長光線曝光作用后其化學結構改變，在顯影液中的溶解度會發(fā)生變化，因此又稱光致抗蝕劑。正膠在曝光后發(fā)生光化學反應，可以被顯影液溶解，留下的薄膜圖形與掩膜版相同；而負膠經過曝...
光刻膠,又稱光致抗蝕劑,具有光化學性,在光的照射下溶解度發(fā)生變化,一般以液態(tài)涂覆在半導體、導體等基片表面上,曝光烘烤后成固態(tài),它可以實現從掩膜版到基片上的圖形轉移,在后續(xù)的處理工序中保護基片不受侵蝕,...
光刻膠按其形成的圖像分類有正性、負性兩大類。在光刻膠工藝過程中，涂層曝光、顯影后，曝光部分被溶解，未曝光部分留下來，該涂層材料為正性光刻膠。如果曝光部分被保留下來，而未曝光被溶解，該涂層材料為負性光刻...
光刻膠（Photoresist）又稱光致抗蝕劑,是通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射，其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。在光刻工藝過程中，用作抗腐蝕涂層材料。半導體材料在表面加工時，若...
光刻膠又稱光致抗蝕劑，是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射，其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料?？捎糜谏罟杩涛g，適合于深寬比工藝，透明度，垂直度好。中文名稱：2-甲基-2-金剛烷醇丙烯...
hrEGF修飾的載順鉑分子納米粒的制備，以聚乙二醇-聚乳酸羥基乙酸-聚賴氨酸(mPEG-PLGA-PLL)為載體,通過聲乳化/溶劑揮發(fā)法制得載順鉑納米粒,然后利用端氨基與重組人表皮因子hrEGF連接,...
順鉑(DDP)并經二氧化錳(MnO2)修飾的納米氧化石墨烯(NGO)遞CDDP/NGO@MH,并研究其對于逆轉谷胱甘肽(GSH)介導的DDPtumour耐的作用。采用透射電子顯微鏡,原子力顯微鏡及粒度...
環(huán)氧合參與tumour的發(fā)生,及轉移，抑制環(huán)氧合可提其他一些抗tumour的抗tumour活性。將環(huán)氧合與順鉑進行化學結合,獲得低的抗tumour。環(huán)氧合鉑(IV)前體，通過在順鉑氧化物的軸向位置引入...
多聚二磷酸腺苷核糖聚合(PARP-1)4-氨基-1,8-萘二胺(4-AN)修飾順鉑，應用MTT法和克隆形成試驗檢測4-AN與順鉑聯合作用對A549的作用;應用單凝膠電泳和微核試驗檢測4-AN與順鉑聯合...
納米的介孔二氧化硅6巰基嘌呤(6MP)修飾順鉑(DDP)的納米遞送體系(MSNS6MP/DDP)。在介孔二氧化硅上修飾巰基,通過二硫鍵連接6MP形成連接6MP的介孔二氧化硅納米粒(MSNS6MP),在...
靶向卡鉑明膠微球具有的,降低副作用，明膠微球可用一步乳化法或二步法制備，用二步法(動態(tài)法或靜置法)7制得的卡鉑明膠微球的量可5.33%。卡鉑昂貴，在水溶液中不穩(wěn)定,不利于重復利用。所以采用乳化法制備卡...
奧沙利鉑屬于的鉑類抗cancer,選擇奧沙利鉑作為模型,水溶性分子修飾的多壁碳納米作為載體，通過水溶性分子修飾處理羧基化碳納米管(MWCNT—COOH),其表面性質,利用透射電子顯微鏡表征修飾后的多壁...
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