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技術(shù)文章

紫外臭氧清洗機(jī)工作原理和應(yīng)用

點(diǎn)擊次數(shù):5892 發(fā)布時(shí)間:2013-4-16

紫外臭氧清洗機(jī)工作原理:

VUV低壓紫外汞燈能同時(shí)發(fā)射波長(zhǎng)254nm185nm的紫外光,這兩種波長(zhǎng)的光子能量可以直接打開(kāi)和切斷有機(jī)物分子中的共價(jià)鍵,使有機(jī)物分子活化,分解成離子、游離態(tài)原子、受激分子等。與此同時(shí),185nm波長(zhǎng)紫外光的光能量能將空氣中的氧氣(O2)分解成臭氧(O3);而254nm波長(zhǎng)的紫外光的光能量能將O3分解成O2和活性氧(O),這個(gè)光敏氧化反應(yīng)過(guò)程是連續(xù)進(jìn)行的,在這兩種短波紫外光的照射下,臭氧會(huì)不斷的生成和分解,活性氧原子就會(huì)不斷的生成,而且越來(lái)越多,由于活性氧原子(O)有強(qiáng)烈的氧化作用,與活化了的有機(jī)物(即碳?xì)浠衔铮┓肿影l(fā)生氧化反應(yīng),生成揮發(fā)性氣體(如CO2CO,H2ONO等)逸出物體表面,從而*清除了粘附在物體表面上的有機(jī)污染物。

紫外臭氧清洗機(jī)應(yīng)用范圍:

光清洗技術(shù)的應(yīng)用范圍十分廣泛,在現(xiàn)代信息技術(shù)行業(yè)中使用光清洗技術(shù)比較普遍,隨著我國(guó)工業(yè)現(xiàn)代化的發(fā)展,光清洗和光改質(zhì)技術(shù)還將逐步應(yīng)用于金屬、塑料、橡膠等工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域。

1、在LCD、OLED生產(chǎn)中,在涂光刻膠、PI膠、定向膜、鉻膜、色膜前經(jīng)過(guò)光清洗,可以極大的提高基體表面潤(rùn)濕性,增強(qiáng)基體表面的粘合力;

2、印制電路板生產(chǎn)中,對(duì)銅底板,印刷底板進(jìn)行光清洗和改質(zhì),在導(dǎo)線焊接前進(jìn)行光清洗,可以提高熔焊的接觸面積,大大增加連接強(qiáng)度。特別是高精度印制電路板,當(dāng)線距達(dá)到亞微米級(jí)時(shí),光清洗可輕易地去除在線距之間很小的微粒,可以大大提高印制電路板的質(zhì)量。

3、大規(guī)模集成電路的密度越來(lái)越高,晶格的微細(xì)化越來(lái)越密,要求表面的潔凈度越來(lái)越高,光清洗可以有效地實(shí)現(xiàn)表面的原子清潔度,而且對(duì)芯片表面不會(huì)造成損傷。

4、在半導(dǎo)體生產(chǎn)中,硅晶片涂保護(hù)膜、鋁蒸發(fā)膜前進(jìn)行光清洗,可以提高粘合力,防止針孔、裂縫的發(fā)生。

5、在光盤(pán)的生產(chǎn)中,沉積各種膜前作光清洗準(zhǔn)備,可以提高光盤(pán)的質(zhì)量。

6、磁頭固定面的粘合,磁頭涂敷,以及提高金屬絲的連接強(qiáng)度,光清洗后效果更好。

7、石英晶體振蕩器生產(chǎn)中,除去晶體檢測(cè)后涂層上的墨跡,晶體在銀蒸發(fā)沉積前,進(jìn)行光清洗可以提高鍍膜質(zhì)量和產(chǎn)品性能。

8、在IC卡表面插裝ROM前,經(jīng)過(guò)光清洗可提高產(chǎn)品質(zhì)量。

9、彩色濾光片生產(chǎn)中,光清洗后能*洗凈表面的有機(jī)污染物。

10、敷銅箔層壓板生產(chǎn)中,經(jīng)過(guò)光照改質(zhì),不僅表面潔凈而且表面形成十分均勻的保護(hù)氧化層,產(chǎn)品質(zhì)量顯著提高。

11、光學(xué)玻璃經(jīng)過(guò)紫外光清洗后,鍍膜質(zhì)量更好。

12、樹(shù)脂透鏡光照后,能加強(qiáng)與防反射板的粘貼性。

13、對(duì)清除石蠟、松香、油脂、人體體油、殘余的光刻膠、環(huán)氧樹(shù)脂、焊劑,以及帶有氧化膜的金屬表面處理,去除導(dǎo)電聚酰亞胺粘合劑上的有機(jī)污染物,光清洗是十分有效的方法。

14、用于原子力顯微鏡應(yīng)用相關(guān)的0硅和氮化硅探針等表面處理。

……

紫外臭氧清洗機(jī)型號(hào)推薦:

美國(guó)Bioforce公司的ProCleaner Plus紫外臭氧清洗儀

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