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AXIS ULTRA DLD-X射線光電子能譜儀
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  • AXIS ULTRA DLD-X射線光電子能譜儀

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貨物所在地: 廣東惠州市
產(chǎn)地: 原裝進(jìn)口日本
更新時(shí)間: 2025-03-07 21:00:07
期: 2025年3月7日--2025年9月7日
已獲點(diǎn)擊: 1600
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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

X射線光電子能譜儀采用平均半徑達(dá)165mm的大型靜電半球分析器與成像專用的球鏡分析器(Kratos)組合的合成分析器。在進(jìn)行化學(xué)狀態(tài)分析、深度方向分析等的譜儀分析時(shí),通過大型靜電半球分析器能夠提供高能量分辨率、高靈敏度的測(cè)定。多點(diǎn)微區(qū)測(cè)定時(shí)利用輸入透鏡內(nèi)的光電子偏轉(zhuǎn)系統(tǒng),能夠?qū)崿F(xiàn)準(zhǔn)確的點(diǎn)分析。 利用球鏡分析器進(jìn)行平行成像。

詳細(xì)介紹

 

 

AXIS ULTRA DLD   X射線光電子能譜儀  日本島

產(chǎn)品信息 

AXIS ULTRA DLD是實(shí)時(shí)成像XPS的產(chǎn)品

-空間分辨率小于3μm- 

 

延遲線探測(cè)器(DLD)系統(tǒng)

    采用了研發(fā)的延遲線探測(cè)器。既可以生成譜圖又可以生成圖像。各測(cè)定模式均可以提供正確的脈沖計(jì)數(shù)。不僅可以在描譜儀模式下,通過128個(gè)檢測(cè)通道提供高靈敏度的測(cè)定,還可以不通過分析器的能量掃描,利用快速非掃描的“快照”譜儀模式瞬間測(cè)定窄掃描譜。成像模式能夠提供256×256像素、空間分辨率小于3μm的高分辨率圖像。 

 

可集成多種分析技術(shù)

    AXIS ULTRA DLD標(biāo)準(zhǔn)配備了具有多個(gè)標(biāo)準(zhǔn)窗口的樣品處理室,作為樣品的前處理腔,功能強(qiáng)大且擴(kuò)展性強(qiáng)。能夠?qū)?yīng)樣品加熱制冷及具有反應(yīng)功能的樣品反應(yīng)池,多樣品停放器等許多選購(gòu)件。樣品分析室可以增加UPS、FE-AES、ISS等分析方法,可以組合成復(fù)合分析裝置。

平行成像和微區(qū)譜圖

    采用平均半徑達(dá)165mm的大型靜電半球分析器與成像的球鏡分析器(Kratos)組合的合成分析器。在進(jìn)行化學(xué)狀態(tài)分析、深度方向分析等的譜儀分析時(shí),通過大型靜電半球分析器能夠提供高能量分辨率、高靈敏度的測(cè)定。多點(diǎn)微區(qū)測(cè)定時(shí)利用輸入透鏡內(nèi)的光電子偏轉(zhuǎn)系統(tǒng),能夠?qū)崿F(xiàn)準(zhǔn)確的點(diǎn)分析。 利用球鏡分析器進(jìn)行平行成像。光電子成像的空間分辨率小于3μm,能夠在譜儀測(cè)定的同時(shí),極短時(shí)間內(nèi)得到高分辨率圖像。

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