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上海添時科學儀器有限公司

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當前位置：上海添時科學儀器有限公司>>產品展示>>CVD氣相沉積>>高真空CVD系統(tǒng)

  • CVD氣相沉積 參考價： 面議

    參考價： 面議 型號：
    CVD（ChemicalVaporDeposition，化學氣相沉積）是一種用于薄膜沉積的技術。它通過將氣態(tài)化學前驅體反應成固態(tài)沉積物，在基材表面形成薄膜。CV...
    型號： 品牌：所在地：上海市 對比
    CVD氣相沉積PECVD等離子體增強氣相沉積
    2025/3/13 13:24:031738

  • 1700°C二通道混氣高真空CVD系統(tǒng) 參考價： 面議

    參考價： 面議 型號：GSL-1700X-HVC
    GSL-1700X-HVC是一款CE認證的二通道高真空CVD系統(tǒng)，它是由二路質子混氣系統(tǒng)和高真空機組組度可達1600℃，極限真空度可達 to 10^-5 tor...
    型號： GSL-1700X... 品牌：合肥科晶所在地：上海市 對比
    馬弗爐CVDPEVCD管式爐合肥科晶
    2025/3/13 12:36:282951
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