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等離子清洗機的清洗原理

閱讀:2338      發(fā)布時間:2022-6-28
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  進口等離子清洗機的清洗原理是在真空腔體里,通過射頻電源在一定的壓力情況下起輝產(chǎn)生高能量的無序的等離子體,通過等離子體轟擊被清洗產(chǎn)品表面,以達到清洗目的。
 
  真空等離子清洗機由真空發(fā)生系統(tǒng)、電氣控制系統(tǒng)、等離子發(fā)生器、真空腔體及相關(guān)機械等幾個部分構(gòu)成。應(yīng)用時可以根據(jù)客戶的要求定制符合客戶需要的真空等離子清洗機。
 
  真空等離子清洗機利用兩個電極形成電磁場,用真空泵實現(xiàn)有效的真空度,隨著氣體越來越稀薄,分子之間的間距及分子或離子的自由運動的距離也越來越長,受磁場作用發(fā)生碰撞而形成等離子體并產(chǎn)生輝光。等離子體在電磁場內(nèi)的空間運動,并不斷轟擊被處理物體表面,去除表面油污以及表面氧化物、灰化表面有機物以及其它化學(xué)物質(zhì),以此達到表面處理清洗和刻蝕的效果。
  
  真空離子清洗機廣泛應(yīng)用于表面去污及等離子刻蝕,聚四氟(PTFE)及聚四氟混合物的刻蝕、塑料、玻璃、陶瓷的表面活化和清洗、等離子涂鍍聚合等工序,因此廣泛應(yīng)用于汽車領(lǐng)域、電子領(lǐng)域、電子領(lǐng)域、PCB制成行業(yè)等高精密度領(lǐng)域。
 
  在這種情況下,等離子處理可以產(chǎn)生以下效果:
 
  1、灰化表面有機層
 
  污染物在真空和瞬時高溫下的部分蒸發(fā),污染物被高能離子粉碎并被真空帶走。
 
  紫外輻射破壞污染物,由于等離子體處理每秒鐘只能穿透幾納米,所以污染層不應(yīng)該太厚。指紋也適用。
 
  2、氧化物去除
 
  這種處理包括使用氫或氫和氬的混合物。有時也采用兩步流程。第一步是用氧氣氧化表面5分鐘,第二步是用氫和氬的混合物除去氧化層。它也可以同時用幾種氣體處理。
 
  3、焊接
 
  通常,印刷電路板應(yīng)在焊接前用化學(xué)藥劑處理。焊接后,這些化學(xué)物質(zhì)必須用等離子體法去除,否則會引起腐蝕和其他問題。
 

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