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全反射X射線熒光(TXRF)前處理方式

閱讀:1789      發(fā)布時間:2023-1-18
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全反射X射線熒光(TXRF)是一種微量分析(Microanalysis)方法,特別適用于樣品量小的樣品,一次分析所需樣品量,固體材料可達微克級,液體樣品則通常少于100μL。但一般原樣很少能直接上機檢測,多數需要將對樣品進行預處理得到溶液、懸濁液、細粉或薄片等。

通常,固體樣品必須經過研碎或消解等步驟,對于超痕量組分來說,還需要對基體進行分離或破壞。因此,用于其他原子光譜的前處理方法,如AASICP-OES等中所使用的消解、富集、凍干、萃取、絡合等都可用于TXRF。對于樣品量特別小的樣品,為避免污染,關鍵步驟還需要在潔凈室內進行。樣品分析流程圖如下:

                           

2-1.jpg

                   

1 TXRF樣品分析流程圖

下表中給出了一些樣品的前處理方法:


意大利GNR公司是一家老牌的歐洲光譜儀生產商,其X射線產品線誕生于1966年,經過半個多世紀的開發(fā)和研究,該產品線已經擁有眾多型號滿足多個行業(yè)的分析需求。

X射線衍射儀(XRD)可測試粉末、薄膜等樣品的晶體結構等指標,多應用于分子結構分析及金屬相變研究;而全反射X熒光光譜儀(TXRF)的檢測限已達到皮克級別,其非破壞性分析特點應用在痕量元素分析中,涉及環(huán)境、醫(yī)藥、半導體、核工業(yè)、石油化工等行業(yè);為迎合工業(yè)市場需求而設計制造的專用殘余應力分析儀、殘余奧氏體分析儀,近年來被廣泛應用在材料檢測領域,其操作的便捷性頗受行業(yè)青睞。




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