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相控陣檢測(cè)內(nèi)壁腐蝕試驗(yàn)

閱讀:799        發(fā)布時(shí)間:2020-3-11

導(dǎo)語(yǔ):

     本文是以前做過(guò)的一個(gè)試驗(yàn),現(xiàn)場(chǎng)有一 處容器需要測(cè)定腐蝕情況,測(cè)腐蝕我們傳統(tǒng)的方式是采用測(cè)厚儀,在現(xiàn)場(chǎng)工件上畫(huà)格子線進(jìn)行單點(diǎn)測(cè)厚,本次業(yè)主要求測(cè)厚需要采用可記錄的方式,何為可記錄方式?理解可記錄至少檢測(cè)結(jié)果可存儲(chǔ)、檢測(cè)位置可追溯。小編想采用相控陣檢測(cè)會(huì)是什么效果,于是采用相控陣進(jìn)行試驗(yàn),下面是試驗(yàn)結(jié)果。

一、試驗(yàn)準(zhǔn)備:

1、檢測(cè)系統(tǒng)

設(shè)備:OLYMPUS OmniScan MX2;

探頭:5L16-A10;

楔塊:0L-A10;

編碼器:mini編碼器

2、采用試塊

階梯平底孔試塊(φ8mm平底孔),結(jié)構(gòu)形式見(jiàn)圖1:

圖1.階梯試塊結(jié)構(gòu)形式

二、試驗(yàn)過(guò)程及檢測(cè)結(jié)果

 1、首先對(duì)設(shè)備探頭進(jìn)行及楔塊進(jìn)行選擇(相控陣設(shè)備內(nèi)置一些探頭及楔塊的參數(shù),需要根據(jù)實(shí)際應(yīng)用的型號(hào)選擇,確保定位、定量的準(zhǔn)確性。如設(shè)備中無(wú)內(nèi)置信息需要自定義進(jìn)行設(shè)置)。

      2、本文未對(duì)TCG(時(shí)間增益修正)進(jìn)行校準(zhǔn),只是針對(duì)不同的聚焦法則下進(jìn)行比對(duì)檢測(cè)。

      3、聚焦法則的設(shè)置:采用0度線掃描,激發(fā)孔徑為4晶片,激發(fā)起始晶片為1,終止晶片為16,連接mini掃查器,檢測(cè)由厚至薄,探頭聲束通過(guò)底片平底孔,檢測(cè)效果見(jiàn)圖2.

圖2.激發(fā)四晶片線掃描檢測(cè)結(jié)果

3、聚焦法則的設(shè)置:

采用0度線掃描,激發(fā)孔徑為4晶片,激發(fā)起始晶片為1,終止晶片為16,連接mini掃查器,檢測(cè)由厚至薄,探頭聲束通過(guò)底片平底孔,檢測(cè)效果見(jiàn)圖3.

圖3.激發(fā)八晶片線掃描檢測(cè)結(jié)果

4、結(jié)論:

采用OmniScan MX2檢測(cè)腐蝕,線掃描可用,B掃描檢測(cè)結(jié)果直觀(板厚變化明顯,平底孔顯示清晰)定量準(zhǔn)確,C掃描檢測(cè)結(jié)果直觀易見(jiàn),無(wú)法對(duì)面積定量,索引軸為未校正標(biāo)尺,無(wú)法對(duì)面積進(jìn)行定量??刹捎肨OMview,進(jìn)行體積融合。

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