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日立冷場發(fā)射掃描電鏡的特點和用途介紹

閱讀:961        發(fā)布時間:2023-7-24
冷場發(fā)射掃描電鏡是一種用于材料科學、化學領域的分析儀器,超顯微、形貌與成份分析相結合。
 
日立冷場發(fā)射掃描電鏡主要用于觀察材料表面的微觀形貌、斷口及內(nèi)部組織,并對材料表面微區(qū)成分進行定性和定量分析。常用于陶瓷分子礦物、纖維、生物等無機或有機固體材料表面及斷面形貌觀察、元素分析,金屬材料相分析、成分分析和夾雜物形態(tài)鑒定。該儀器可高分辨率觀察樣品表面超微結構,尤其對生物等不導電樣品,無需鍍膜即可實現(xiàn)高保真觀察。
 
儀器具有高分辨率、高反差、高靈敏,配置能譜、真空轉移、高真空離子濺射儀。滿足廣大用戶對掃描電鏡的使用需求,大景深圖像掃描、提高能譜采集效率、實現(xiàn)有效檢測易與空氣發(fā)生作用的活潑樣品。對材料進行納米尺度的形貌觀察和成分分析。
 
主要特點有:
1.配備加速電壓減速功能,優(yōu)良的低加速電壓成像能力,1kV分辨率可達1.1nm;
2.日立E×B技術,無需噴鍍,可直接觀測不導電樣品;
3.配備電子槍內(nèi)置加熱器,物鏡光闌具有自清潔功能;
4.SE與BSE任意比例搭配功能。

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