紫外臭氧清洗機是一種簡單，經濟，快速高效的材料表面清洗設備，能快速去除大多數無機基材(比如石英，硅片，金，鎳，鋁，砷化鎵，氧化鋁等)上的有機污染物。
紫外臭氧清洗機運用紫外光清洗技術通過利用有機化合物的光敏氧化作用達到去除黏附在材料表面上的有機物質，經過光清洗后的材料表面可以達到“原子清潔度”。也就是UV光源發(fā)射波長為185nm和254nm的光波，具有很高的能量,當這些光子作用到被清洗物體表面時,由于大多數碳氫化合物對185nm波長的紫外光具有較強的吸收能力,并在吸收185nm波長的紫外光的能量后分解成離子、游離態(tài)原子、受激分子和中子，這就是所謂光敏作用?？諝庵械难鯕夥肿釉谖樟?85nm波長的紫外光后也會產生臭氧和原子氧。臭氧對254nm波長的紫外光同樣具有強烈的吸收作用,臭氧又分解為原子氧和氧氣。其中原子氧是活潑的,在它作用下,物體表面上的碳和碳氫化合物的分解物可化合成可揮發(fā)的氣體：二氧化碳和水蒸氣等逸出表面，從而*底清除了黏附在物體表面上的碳和有機污染物。
紫外臭氧清洗機可以去除樣品表面污染，數分鐘內產生超凈表面。它利用高能紫外光源產生臭氧，臭氧將樣品表面的污染物分解為揮發(fā)性化合物。揮發(fā)性化合物從樣品表面蒸發(fā)的痕跡。這種清潔方法可以產生接近原子級的清潔表面，而不會對樣品表面產生損壞。
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