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當前位置：> 供求商機> 高溫高壓光學浮區(qū)爐

[供應(yīng)]高溫高壓光學浮區(qū)爐返回列表頁

更新時間：2025-05-09 21:00:07

有效期：2025年5月9日 -- 2025年11月9日

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產(chǎn)品分類品牌

光反應(yīng)釜: 釜式光反應(yīng)器連續(xù)流光催化反應(yīng)器

動態(tài)反應(yīng)溫度控制系統(tǒng): 高低溫一體機制冷加熱循環(huán)一體機

微通道反應(yīng)器

高壓透明反應(yīng)釜

玻璃反應(yīng)釜: 聚酯反應(yīng)釜聚醚反應(yīng)釜在線粒徑樹脂反應(yīng)釜玻璃結(jié)晶反應(yīng)釜高壓光學觀察倉微生物反應(yīng)器全自動熱平衡玻璃反應(yīng)釜超聲波結(jié)晶反應(yīng)瓶全自動玻璃反應(yīng)釜平行反應(yīng)釜均質(zhì)乳化釜超聲波玻璃反應(yīng)釜

精餾裝置: 高沸點精餾塔高熔點精餾塔

原油分析儀: 原油凝固點儀原油脫水儀原油密度儀原油取樣器原油有機氯分析儀

高壓電化學腐蝕測試系統(tǒng)

智能高壓反應(yīng)釜: 鋯材反應(yīng)釜智能臺式高壓反應(yīng)釜

超高壓反應(yīng)釜: 超高壓水熱反應(yīng)釜超高壓光學池多場耦合實驗系統(tǒng) 天然氣水合物反應(yīng)實驗裝置高壓結(jié)晶釜超高壓超高溫反應(yīng)釜超高壓深海模擬實驗系統(tǒng)

化學合成裝置|定制產(chǎn)品: 原位固定床催化反應(yīng)器 COC聚合羰基合成醋酸反應(yīng)系統(tǒng) 前驅(qū)體三元共沉淀生產(chǎn)線三元共沉淀反應(yīng)釜量子點反應(yīng)器固定床評價裝置流體PVT分析儀平行反應(yīng)器平行反應(yīng)儀生物質(zhì)反應(yīng)釜量熱反應(yīng)釜|量熱儀光催化及光熱反應(yīng)裝置分子蒸餾高壓環(huán)流反應(yīng)器高壓電解液配料反應(yīng)系統(tǒng) 微通道連續(xù)流反應(yīng)器 EOPO環(huán)氧乙烷丙烷反應(yīng)釜臥式反應(yīng)釜球型反應(yīng)釜微波反應(yīng)釜可視化相平衡反應(yīng)釜聚合反應(yīng)釜

超臨界流體反應(yīng)裝置: 超臨界裂解反應(yīng)釜超臨界水合反應(yīng)釜高壓驅(qū)替系統(tǒng)（巖心實驗裝置）巖石三軸流變儀超臨界氣凝膠干燥超臨界水氧反應(yīng)釜

高溫高壓柱塞泵: 高溫高壓平流/恒流泵防爆柱塞泵高溫高壓調(diào)節(jié)針閥氧氣增壓泵系統(tǒng) 超高壓液體泵減壓閥

沖刷腐蝕實驗裝置: 高壓沖刷腐蝕實驗裝置

分散乳化反應(yīng)系統(tǒng): 臥式高剪切分散乳化機金屬乳化反應(yīng)釜全自動中試生產(chǎn)乳化系統(tǒng) 射流式/捷流式分散混合機內(nèi)外循環(huán)高剪切分散乳化機單級管線式高剪切乳化機三級管線式高剪切乳化機管線式高速分散乳化機分體式高剪切分散乳化機, 研磨分散機立式固液分散混合系統(tǒng) 分體式高速粉液混合機工業(yè)成套乳化分散反應(yīng)系統(tǒng) 高溫高壓乳化反應(yīng)釜自動多功能超聲乳化反應(yīng)釜熱平衡均質(zhì)反應(yīng)系統(tǒng)

蝶片式離心機

超高溫物性分析儀: 超高溫粘度計腐蝕疲勞性測試

高壓高溫爐體: 超高溫 SPS等離子放電燒結(jié)爐高溫高壓電弧爐合金氣壓燒結(jié)爐高溫高壓燒結(jié)爐熔鹽物性測試儀高溫高壓振蕩燒結(jié)爐真空感應(yīng)熔煉爐金剛石燒結(jié)爐熱等靜壓燒結(jié)爐全自動多功能微波干燥系統(tǒng) 高載重同步輻射位移平臺石墨爐

生物醫(yī)學| 細胞培養(yǎng): 蛋白穩(wěn)定性分析儀外泌體熒光檢測分析系統(tǒng) 生物發(fā)光分析儀發(fā)酵系統(tǒng) 分子間相互作用儀德國IRM高壓滅菌鍋高通量分子操控分析儀細胞動態(tài)分析|跨膜電阻儀 3D超高分辨熒光成像顯微鏡微生物培養(yǎng)驅(qū)替實驗系統(tǒng) CO2恒溫振蕩細胞培養(yǎng)箱顯微鏡

材料表征與鑒定: 高溫高壓浸入式拉曼皮膚檢測成像拉曼顯微光譜表征熒光實驗型薄膜包衣機表征系統(tǒng) 顯微鏡核磁低溫強磁場拉曼顯微鏡紫外粒徑紅外

放射性分析檢測儀器: 液體閃爍譜儀

生物成像系統(tǒng): 原位細胞切割成像系統(tǒng) 光學輪廓測量顯微鏡細胞成像小動物活體成像植物活體成像化學發(fā)光成像系統(tǒng) 化學發(fā)光多色熒光成像凝膠成像儀

通用設(shè)備: 生物化工洗瓶機 PDI顆粒耐久性測試儀搖床實驗箱

微量在線氣體檢測: 氣體檢測儀

全部產(chǎn)品列表

供應(yīng)簡介

高溫高壓光學浮區(qū)爐
能夠提供2200–3000℃以上的生長溫度，晶體生長腔可Z大壓力可達300Bar，甚以及10-5mBar的高真空。適用于生長各種超導(dǎo)材料單晶，介電和磁性材料單晶，氧化物及金屬間化合物單晶等

高溫高壓光學浮區(qū)爐

高溫高壓光學浮區(qū)爐能夠提供2200–3000℃以上的生長溫度，晶體生長腔可zui大壓力可達300Bar，甚以及10^-5mBar的高真空。適用于生長各種超導(dǎo)材料單晶，介電和磁性材料單晶，氧化物及金屬間化合物單晶等。

豎直雙鏡設(shè)計，采用高照度短弧氙燈
熔區(qū)溫度：zui高>3000℃
熔區(qū)壓力：10^-5 mbar 至 300 bar
多路獨立氣體流量和氣壓控制

豐富的可升級選件

耐高溫、耐高壓、高真空、高透光率、由德國弗勞恩霍夫應(yīng)用光學和精密工程研究所優(yōu)化設(shè)計的高反射拆裝簡便、帶樣品污染保護的石英樣品腔率鏡面，鏡體位置和角度可由高精度步進馬達控制調(diào)節(jié)

主要技術(shù)參數(shù)：


熔區(qū)溫度	zui高2000 - 3000℃以上
熔區(qū)壓力	zui大10、50、100、150、300 bar可選
熔區(qū)真空	110-2 mbar或 110-5 mbar可選
熔區(qū)氣氛	Ar、O₂、N₂等可選
氣體流量	0.25 – 1 L/min流量可控
氙燈功率	3kW 至 15kW可選
料棒臺尺寸	6.8mm 或 9.8mm可選
拉伸速率	0.1-200 mm/h
調(diào)節(jié)速率	0.6 mm/s
拉伸尺寸	zui大195mm
旋轉(zhuǎn)速率	0-150 rpm
用電功率	400V三相 63A 50Hz
水冷功率	大于8kW
主機尺寸	302cm163cm92cm

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