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產(chǎn)品簡介
詳細(xì)介紹
CVD-1700真空系統(tǒng)由高溫管式爐，高真空擴(kuò)散泵/分子泵系統(tǒng)，多通道高精度數(shù)字質(zhì)量流量控制系統(tǒng)，自動(dòng)壓強(qiáng)控制系統(tǒng)等組成?？蓪?shí)現(xiàn)本底真空達(dá)0.001—0.0001Pa混合氣體化學(xué)氣相沉積和擴(kuò)散試驗(yàn)。 | |||
CVD-1700真空系統(tǒng)主要功能和特點(diǎn)： 1、真空系統(tǒng)可根據(jù)使用要求選擇我司擴(kuò)散泵機(jī)組或分子泵機(jī)組； 2、可配合壓強(qiáng)控制儀控制氣體壓力實(shí)現(xiàn)負(fù)壓的精準(zhǔn)控制； 3、數(shù)字質(zhì)量流量控制系統(tǒng)是由多路質(zhì)量流量計(jì)，流量顯示儀等組成，實(shí)現(xiàn)氣體的流量的精密測量和控制； 4、每條氣體管路均配備高壓逆止閥，保證系統(tǒng)的安全可靠。 5、采用水冷KF快速法蘭密封，裝卸方便快捷； 6、管路采用世界*Swagelok卡套連接，不漏氣； 7、超溫、過壓時(shí)，自動(dòng)切斷加熱電源及流量計(jì)進(jìn)氣，保證設(shè)備及實(shí)驗(yàn)的安全性。 | |||
CVD-1700真空系統(tǒng)主要用途： 適用于真空鍍膜、納米薄膜材料制備、納米線生長等場所。 | |||
CVD-1700真空系統(tǒng)主要技術(shù)參數(shù)： | |||
SGL-1700高溫爐 | 控溫方式 | 采用人工智能調(diào)節(jié)技術(shù)，具有PID調(diào)節(jié)、自整定功能，并可編制50段升降溫程序。 | |
加熱元件 | 進(jìn)口1700型優(yōu)質(zhì)硅鉬棒 | ||
工作電源 | AC220V 50Hz/60Hz；額定功率6kw | ||
爐管材質(zhì) | 99瓷氧化鋁剛玉管 | ||
爐管尺寸 | Φ60/80/100*/1000mm | ||
工作溫度 | ≤1600℃ | ||
zui高溫度 | 1650℃ | ||
恒溫精度 | ±1℃ | ||
升溫速度 | ≤10℃/min | ||
測溫元件 | B型熱電偶 | ||
密封方式 | 不銹鋼水冷KF法蘭擠壓密封 | ||
ZK真空系統(tǒng) | ZK-F | ZK-K | |
真空范圍 | 0.1-0.001Pa | 0.1-0.01Pa | |
極限真空 | 5.0*10^-5Pa | 5.0*10^-4Pa | |
產(chǎn)品配置 | 雙級旋片真空泵+分子泵 | 雙級旋片真空泵+擴(kuò)散泵 | |
冷卻方式 | 風(fēng)冷 | 水冷 | |
抽 速 | 110L/S | 100L/S | |
測量方式 | 復(fù)合真空計(jì) | ||
真空規(guī)管 | 電阻規(guī)+電離規(guī) | ||
ZDC-I壓強(qiáng)控制系統(tǒng) | 測量范圍 | 1*10^5～1*10^-1 Pa | |
穩(wěn)壓(真空)范圍 | 1*10^3～1*10Pa | ||
壓力(穩(wěn)定精度） | ±3% | ||
控制范圍 | 2.5*10^3～5*10^-1 Pa | ||
控制精度 | ± 1% | ||
HQZ-Ⅲ混氣系統(tǒng) | 控制方式 | D07-7K質(zhì)量流量計(jì),D08流量顯示儀 | |
流量規(guī)格（可訂制） | 0－500SCCM /0－1SLM, | ||
線 性 | ±1%F.S. | ||
準(zhǔn)確度 | ±1%F.S. | ||
重復(fù)精度 | ±0.2%F.S. | ||
響應(yīng)時(shí)間 | ≤2sec | ||
耐 壓 | 3MPa | ||
氣路通道 | 3通道（根據(jù)客戶需求） | ||
針 閥 | 316不銹鋼 | ||
管 道 | Φ6mm不銹鋼管 | ||
接 口 | SwagelokΦ6mm | ||