高真空4英寸三靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：350000
高真空4英寸三靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該三靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比，其不僅應用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點...
桌面型雙靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：120000
桌面型雙靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比，其不僅應用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點，是一款實...
桌面型單靶直流磁控濺射鍍膜儀 參考價：120000
桌面型單靶直流磁控濺射鍍膜儀是一種物理氣相沉積設(shè)備，廣泛應用于半導體、光電子、顯示技術(shù)和表面工程等領(lǐng)域。該設(shè)備采用磁控濺射技術(shù)，通過磁場增強離子化效率，從而實現(xiàn)...
分體式高真空三靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：250000
分體式高真空三靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該三靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比，其不僅應用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點...
高真空三靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：250000
高真空三靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該三靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比，其不僅應用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點，是一...
雙靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：120000
雙靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比，其不僅應用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點，是一款實驗室制...
桌面型磁控濺射鍍膜儀上置靶槍 參考價：120000
桌面型磁控濺射鍍膜儀上置靶槍是一種物理氣相沉積設(shè)備，廣泛應用于半導體、光電子、顯示技術(shù)和表面工程等領(lǐng)域。該設(shè)備采用磁控濺射技術(shù)，通過磁場增強離子化效率，從而實現(xiàn)...
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