桌面型熱蒸發(fā)鍍膜儀帶膜厚儀 參考價：90000
桌面型熱蒸發(fā)鍍膜儀帶膜厚儀可提供100A的鍍膜電流，蒸發(fā)溫度可達(dá)1800℃，能夠滿足各種常見金屬及部分非金屬的蒸鍍
小型電動升降樣品臺蒸發(fā)鍍膜儀 參考價：90000
小型電動升降樣品臺蒸發(fā)鍍膜儀為桌面型小型蒸發(fā)鍍膜儀，設(shè)備安裝有鎢絲籃蒸發(fā)源，可提供*大100A的鍍膜電流，*大蒸發(fā)溫度可達(dá)1800℃，能夠滿足各種常見金屬的蒸鍍...
多源真空蒸發(fā)鍍膜儀 參考價：250000
多源真空蒸發(fā)鍍膜儀還適用于對氧敏感的金屬薄膜（如Ti、Al、Au等）的蒸鍍，也適用于各種氧化物材料的蒸鍍
小型高真空雙源熱蒸發(fā)鍍膜儀 參考價：90000
小型高真空雙源熱蒸發(fā)鍍膜儀可提供100A的鍍膜電流，蒸發(fā)溫度可達(dá)1800℃，能夠滿足各種常見金屬的蒸鍍及部分非金屬蒸鍍。
桌面型有機(jī)源蒸發(fā)鍍膜儀 參考價：100000
桌面型有機(jī)源蒸發(fā)鍍膜儀的物理過程主要包括材料的蒸發(fā)、氣態(tài)粒子的輸運(yùn)以及在基底上的沉積成膜。在蒸發(fā)過程中，材料需要獲得足夠的熱能以克服分子間的結(jié)合能，從而轉(zhuǎn)變?yōu)闅?..
高真空三源熱蒸發(fā)鍍膜儀 參考價：250000
高真空三源熱蒸發(fā)鍍膜儀應(yīng)用領(lǐng)域：金屬和介電膜 ，薄膜傳感器的制造 ，光學(xué)元件 ，納米與微電子 ，太陽能電池等
雙靶直流磁控濺射鍍膜儀 參考價：120000
雙靶直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等。該磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn)，是一款實(shí)驗(yàn)...
三靶向上磁控濺射鍍膜儀 參考價：250000
三靶向上磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。該磁控...
光纖繞絲單靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：200000
光纖繞絲單靶磁控濺射鍍膜儀是一種用于制備薄膜的設(shè)備。它可以在基板表面形成均勻、致密、薄且具有特定性質(zhì)的膜層
帶過渡艙三靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：250000
本設(shè)備為帶過渡艙三靶磁控濺射鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用，也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備
三靶直流磁控濺射鍍膜儀 參考價：250000
三靶直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。該磁控...
粉末磁控濺射鍍膜儀 參考價：220000
粉末磁控濺射鍍膜儀是一種用于在基材表面沉積薄膜的設(shè)備，利用磁控濺射技術(shù)將粉末狀的靶材轉(zhuǎn)化為薄膜覆蓋在基材上
三靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：350000
三靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。該磁控濺射...
桌面型不銹鋼腔體單靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：120000
桌面型不銹鋼腔體單靶磁控濺射鍍膜儀是一種物理氣相沉積設(shè)備，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光電子、顯示技術(shù)和表面工程等領(lǐng)域。該設(shè)備采用磁控濺射技術(shù)，通過磁場增強(qiáng)離子化效率，從...
臥式高真空三靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：250000
臥式高真空三靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等。該三靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn)，...
高真空4英寸三靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：350000
高真空4英寸三靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等。該三靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn)...
下置四靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：350000
下置四靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等。該三靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn)，是一款...
桌面型雙靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：120000
桌面型雙靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等。該磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn)，是一款實(shí)...
桌面型單靶直流磁控濺射鍍膜儀 參考價：120000
桌面型單靶直流磁控濺射鍍膜儀是一種物理氣相沉積設(shè)備，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光電子、顯示技術(shù)和表面工程等領(lǐng)域。該設(shè)備采用磁控濺射技術(shù)，通過磁場增強(qiáng)離子化效率，從而實(shí)現(xiàn)...
分體式高真空三靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：250000
分體式高真空三靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等。該三靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn)...
高真空三靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：250000
高真空三靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等。該三靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn)，是一...
雙靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：120000
雙靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等。該磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn)，是一款實(shí)驗(yàn)室制...
桌面型磁控濺射鍍膜儀上置靶槍 參考價：120000
桌面型磁控濺射鍍膜儀上置靶槍是一種物理氣相沉積設(shè)備，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光電子、顯示技術(shù)和表面工程等領(lǐng)域。該設(shè)備采用磁控濺射技術(shù)，通過磁場增強(qiáng)離子化效率，從而實(shí)現(xiàn)...
氧化鋯，軟質(zhì)合金二合一燒結(jié)爐 參考價：19000
CY-B1700X二合一燒結(jié)爐為我公司獨(dú)立研發(fā)的氧化鋯，軟質(zhì)合金燒結(jié)兩用爐，既可進(jìn)行氧化鋯的燒結(jié)，也可用于軟質(zhì)合金的燒結(jié)。爐膛采用進(jìn)口氧化鋁纖維和進(jìn)口1800純...(空格分隔,最多3個,單個標(biāo)簽最多10個字符)
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